Gebraucht VERTEQ 1600-M #9123187 zu verkaufen

VERTEQ 1600-M ist eine digitale Photolackausrüstung, die für die präzise, hochauflösende Strukturierung von Substraten entwickelt wurde. Dieses System nutzt optische Bildgebung und Lasermuster, um hochpräzise und gleichmäßige strukturierte Merkmale auf der Oberfläche von Halbleitermaterialien und anderen Substraten zu schaffen. Die Photoresist-Einheit ist mit einem hochwertigen Scanner, einer Lasermuster-Engine und einem fortschrittlichen Softwarepaket ausgestattet, das Anwendern die ultimative Kontrolle über die Musterung von Substraten bietet. 1600-M ist benutzerfreundlich und einfach zu bedienen. Mit seiner fortschrittlichen Software können Benutzer Funktionen schnell ändern, Auflösungen ändern und andere Parameter anpassen, um optimale Musterergebnisse zu erzielen. Die Maschine ist auch mit einer Auswahl von Scannern im Bereich von 0,5 - 40 Mikron ausgestattet, so dass unterschiedliche Substrat- und Laserauflösungen möglich sind. Zusätzlich ist eine Aberrationskorrektur verfügbar, die bei der Merkmalsschärfe über das Substrat hilft. Mit seiner drehzahlvariablen Abtastung ist das Werkzeug in der Lage, hohe Durchsatzraten zu erreichen. VERTEQ 1600-M verwendet ein Doppelstrahl-Asset für hochpräzise Substratmuster. Dieses Modell besteht aus einem 1,06 μ m Laserstrahl, gepaart mit einem UV-Laser, dessen Wellenlänge bis zu 355 nm eingestellt werden kann. Der Dual-Beam-Mechanismus optimiert die Schreibleistung für optimale Platzierung und Kontrast. Bei Aktivierung pulsiert der Laser präzise und gleichmäßig über die Substratoberfläche mit ausgezeichneter Genauigkeit und hochauflösender Strukturierung. 1600-M verfügt auch über mehrere Sicherheitsmerkmale, einschließlich einer Notlaserabschaltung, Gefahrenschutz und Schutz vor Kohärenz und Oberwellen. Die Wasserkühlung sorgt für eine zusätzliche Kühlung des Lasers und des Substrats und ermöglicht eine präzise Strukturierung des Substrats bei gleichzeitigem Schutz des Systems vor Überhitzung. VERTEQ 1600-M ist eine fortschrittliche Photolackeinheit, die die höchste Auflösung für die Strukturierung von Halbleitermaterialien bietet. Mit seiner benutzerfreundlichen Software und der einfach zu bedienenden Hardware können Anwender schnell hochgenaue und einheitliche Muster auf ihren Substraten erstellen. Seine leistungsstarke Lasermaschine ist mit mehreren Sicherheitsmerkmalen ausgestattet und kann hohe Durchsatzraten erzielen und gleichzeitig die höchste erreichbare Auflösung bieten.