Gebraucht VERTEQ 1600-NSC #9366559 zu verkaufen

ID: 9366559
Wafergröße: 4"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4".
VERTEQ 1600-NSC ist eine Photolackausrüstung der nächsten Generation, die verwendet wird, um hochpräzise Funktionen in Halbleiter- und anderen integrierten Schaltungsbauelementen zu schaffen. Das System ist eine voll ausgestattete Plattform, die einen hochpräzisen Maskenausrichter, eine Belichtungsquelle und eine chemische Verarbeitungsausrüstung umfasst. Dadurch bietet es eine Kombination aus Merkmalen für verbesserte Produktionskapazitäten, Zuverlässigkeit und Kosteneinsparungen. 1600-NSC verfügt über einen präzisen 5-Achsen-Masken-Aligner, der mit 0,3 Mikrometer Präzision arbeiten kann, um eine hohe Genauigkeit Ausrichtung und Kontrolle zu gewährleisten, die zu Hochleistungsteilen übersetzt. Das Gerät verwendet auch eine Hochfrequenz-Lampenbelichtungsquelle, die schnelle, zuverlässige belichtete Wafergeschwindigkeit liefert. Eine erweiterte Fotolackauswahl ermöglicht es Benutzern, einen Resist mit gewünschten optischen Eigenschaften auszuwählen, der hohe Kontrasteigenschaften ermöglicht. Die chemische Verarbeitungsmaschine innerhalb von VERTEQ 1600-NSC ermöglicht die sichere und effiziente Entfernung von Photolack und enthält verschiedene Chemikalien zur Entfernung wie trockene Ätzmittel, wässrige Lösungen und Inertgase. Darüber hinaus unterstützt das Werkzeug mehrschichtige Prozesstechniken wie Tiefgrabenätzen oder über Füllung und bietet eine effiziente Kühlung des Wafers, um thermische Belastungen während der Photolithographie, beim Polieren und beim Ätzen zu reduzieren. 1600-NSC eignet sich gut für präzise Fertigung wie Halbleiterbauelemente. Die Kombination aller Asset-Komponenten sorgt für einen hohen Durchsatz und kurze Zykluszeiten und stellt sicher, dass der Kunde mit einem zuverlässigen und vielseitigen Modell versorgt wird, das die Produktionskosten senkt und die Gesamtqualität der Teile verbessert.
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