Gebraucht VERTEQ 1600 #9234910 zu verkaufen

VERTEQ 1600
Hersteller
VERTEQ
Modell
1600
ID: 9234910
Wafergröße: 6"
Spin Rinse Dryer (SRD), 6" DI Water Wafer washer.
VERTEQ 1600 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Werkzeug für die Beseitigung von Mustern in einen Photoresist ab einer Photomaske. Mit überlegener Belichtungsgenauigkeit und Wiederholbarkeit ist dieses System die ideale Wahl für die Halbleiterherstellung und andere Mikrofabrikationsanwendungen. 1600 verwendet einen patentierten optischen Zug mit einem Flachfeld-Design, das die meisten Aberrationen beseitigt, was zu extrem präzisen Bildgebungsfunktionen führt. Ein integrierter digitaler Servomotor-Oszillator, eine dynamische Autokollimator-Rückkopplungseinheit und eine interne diagonale Servomotor-Spiegelhalterung führen zu beispiellosen Merkmalen wie hoher Genauigkeit und wiederholbarer Belichtung sowie einer schnellen und einfachen Ausrichtung. Mit dieser Maschine ist es möglich, über ein großes Sichtfeld eine Auflösung von bis zu 5,0 Nanometern zu erreichen. Das Tool verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche mit einem einfach zu bedienenden Touchscreen für die Bedienung. Weitere Funktionen sind gedruckte Berichte, Protokollressourcen und Benutzerprogrammierbarkeit. Darüber hinaus ermöglicht eine offene Architektur eine schnelle Integration und Erweiterung des Modells. Zusätzlich können der Standardkonfiguration von VERTEQ 1600 mehrere optionale Zubehörteile hinzugefügt werden. 1600 ist mit einem leistungsstarken und vielseitigen integrierten Prozessor mit erweiterten Algorithmen ausgestattet. Dieser Prozessor stellt sicher, dass Substrate schnell und präzise belichtet werden, und ermöglicht auch die Kalibrierung der Geräte, um mehrere Arten von Photomasken durch benutzereinstellbare Einstellungen zu verwenden. Zusätzliche Merkmale wie Substratkompensation, Umgebungsbelichtung und Kantenquadrierung verbessern die Genauigkeit weiter. Das System ist kompatibel mit Standard-Substraten, einschließlich Quarz, Quarz/Soda, Glas und Quarzglas-Dateien. Es funktioniert auch mit einer Reihe von verschiedenen Photomasken, wie DMD, Chrom und Chromoxid. Abschließend bietet VERTEQ 1600 Photoresist-Einheit überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit, so dass es eine ausgezeichnete Wahl für hochpräzise Mikrofabrikationsanwendungen. Die Maschine wird durch eine intuitive Benutzeroberfläche, einen vielseitigen integrierten Prozessor und optionales Zubehör unterstützt und bietet somit ein hohes Preis-Leistungs-Verhältnis.
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