Gebraucht VERTEQ 1600 #9245627 zu verkaufen
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ID: 9245627
Wafergröße: 4"
Spin Rinse Dryer (SRD), 4"
Rated:
Voltage: 1Ø, 2 W, 220 VAC
Current: 50 A
Frequency: 50~60 Hz
Power consumption: 1.10 kW.
VERTEQ 1600 ist eine präzise Photoresist-Ausrüstung, die eine vollständige Kontrolle und Genauigkeit im Lithographie-Prozess ermöglicht. Dieses System ist die beste Wahl für Anwendungen mit hoher Auflösung, bei denen die Registrierungsschwierigkeiten minimiert werden müssen. 1600 verfügt über einen hochgenauen 6-Achsen-Handhabungsarm und ein 5-Achsen-Rotationsmodul, das maximale Flexibilität bei der Handhabung von Substraten ermöglicht. Darüber hinaus verfügt VERTEQ 1600 über eine zum Patent angemeldete „obere Platte“, die sich bewegt, um das Substrat zu treffen, so dass die Einheit schnell und ohne Kontakt Substrat pflücken kann. Dieser empfindliche Prozess kombiniert mit den präzise platzierten Substraten und Bodenplatte ermöglicht eine exakte Registrierung und Kontrolle während des gesamten Prozesses. 1600 unterstützt 4-Zoll-und 6-Zoll-Durchmesser, so dass hohe Genauigkeit auf Standard-und Nicht-Standard-Substrate. Die Maschine bietet auch benutzerdefinierte Prozesssteuerung und hochauflösende Bildgebungsfunktionen, die speziell für Wafer-Level-Prozesse wie Photoresist-Spinner, Belichtung, Entwicklung und Nassverarbeitung konfiguriert sind. Das fortschrittliche optische Design und die Wellenlängengenauigkeit sorgen für eine präzise Abbildung des Waferausrichtungsprozesses und ermöglichen einen zuverlässigen Betrieb. VERTEQ 1600 bietet überlegenen Schutz der Substrate vor Umweltstaub oder Beschädigungen durch das vakuumierte versiegelte Fangwerkzeug. Das Low-Profile-Design des Asset ermöglicht es, in Räume zu passen, die typischerweise keine kompletten Saugnapf-basierten Lösungen ermöglichen. Es entspricht den neuesten Sicherheitsprotokollen und wurde entwickelt, um schädliche Emissionen zu minimieren. 1600 Modell bietet die höchste Genauigkeit und Wiederholbarkeit in der Lithographie, so dass es die optimale Wahl für Anwendungen, die präzise Bildgebung. Diese Photoresist-Ausrüstung wurde speziell entwickelt, um die hohen Anforderungen an Wafer-Level-Prozesse wie Photoresist-Spinner, Belichtung, Entwicklung und Nassverarbeitung zu bewältigen. Das fortschrittliche optische Design, der überlegene Schutz und die erhöhte Zuverlässigkeit machen dieses System zu einem der besten auf dem Markt. VERTEQ 1600 ist die perfekte Wahl für Forschung, Entwicklung und Produktion.
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