Gebraucht VERTEQ 1600 #9280736 zu verkaufen

VERTEQ 1600 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die die Entwicklung komplizierter, hochpräziser Photolithographiemuster für elektronische, optoelektronische und andere MEMS (mikro-elektromechanische) Schaltungen ermöglicht. Dieses System besteht aus einer hochauflösenden Kamera, einer Lichtquelle und einem Lithographiewerkzeug. Die 1600er Kamera kann bis zu 16 Megapixel in 12 Bit pro Farbe (3 Kanäle) abbilden und ist mit einer internen Beleuchtungseinheit ausgestattet. Die Kamera verwendet eine Dual-Maske-Ausrichtungsmaschine, die ein Gittermuster verwendet, um Musterrahmen mit einer Nenngenauigkeit von +/- 5 um genau auszurichten. Diese Präzision ermöglicht eine detailreiche, verlustarme Bildgebung, die sich ideal für MEMS und optoelektronische Anwendungen eignet. Die Lichtquelle von VERTEQ 1600 ist eine 400 Watt kurze Bogenlampe, die eine gleichmäßige, hochintensive Beleuchtung bietet. Das Tool enthält auch eine doppelte Lichtfilterung, um Flexibilität in Belichtungszeiten und Spektralbereich zu ermöglichen. Dadurch kann der Anwender Beleuchtungs- und Belichtungszeiten je nach Bedarf und Anwendung anpassen. Das Lithographiewerkzeug von 1600 ermöglicht eine präzise Belichtung von Photomasken. Es verwendet einen integrierten Schrittmotor und unabhängige Controller, um volle, dreidimensionale Bewegungen in alle Richtungen zu erleichtern und ermöglicht eine hohe Genauigkeit, wiederholbare Funktionen in jedem Winkel mit bis zu +/- 7,5 um Positioniergenauigkeit gefertigt werden. Das Lithographie-Tool enthält auch ein Fokussiermodell, um die bestmögliche Expositionstreue zu gewährleisten. VERTEQ 1600 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die die Entwicklung komplizierter Muster für elektronische und optoelektronische Schaltungen ermöglicht. Die hochauflösende Kamera, das Dual-Maskenausrichtungssystem und die 400-Watt-Kurzbogenlampe bieten neben dem integrierten Lithographiewerkzeug eine präzise Belichtung, die eine hohe Detailgenauigkeit und eine verlustarme Bildgebung ermöglicht, die sich ideal für MEMS und optoelektronische Anwendungen eignet.