Gebraucht VERTEQ 1800-6AL #9255507 zu verkaufen

VERTEQ 1800-6AL Photoresist Equipment ist ein integriertes Resist Deposition und Post-Exposure Bake (PEB) System für photolithographische Anwendungen. Dieses Gerät verfügt über eine Hochleistungsresistenzlieferung sowie eine fortschrittliche Backstation nach der Belichtung und bietet dedizierte Temperaturen und Zeiteinstellungen für optimierte Prozesswiederholbarkeit. 1800-6AL ist mit einer vertikalen Konfiguration konzipiert, die den Platzbedarf erheblich reduziert und die Wartung vereinfacht. Die Maschine verfügt über eine hochpräzise, korrosionsbeständige, Resistförderpumpe und Vakuumventuri, um eine glatte Resistabscheidung und eine konstante Resistdicke zu gewährleisten. Eine intuitive Benutzeroberfläche bietet ein benutzerfreundliches Tool mit bis zu zwölf separaten Rezepten, mit dem Benutzer ihre gewünschten Resist-Umgebungen schnell konfigurieren können. Darüber hinaus ist die Anlage mit Heizplatten ausgestattet und steuert im Temperatur- oder Zeitbereich einstellbar. Die Nachbelichtungs-Backstation ist aus Aluminium für thermische Stabilität und erhöhte Gleichmäßigkeit aufgebaut. Es ist auch mit einer beheizten Resistschale mit hoher Kapazität ausgestattet, die während der gesamten Exposition eine konstante Widerstandstemperatur aufrechterhält. Das VERTEQ 1800-6AL Modell eignet sich hervorragend für eine Vielzahl von Photolithographieanwendungen und ist sowohl unter Berücksichtigung der Prozess- als auch der Bedienersicherheit konzipiert. Ein wesentliches Merkmal der Ausrüstung ist die „ausfallsichere“ Fähigkeit bei mehreren Prozessstörungen. Dadurch wird sichergestellt, dass in diesen potentiell gefährlichen Situationen keine zusätzlichen Schäden am System verursacht werden können. Das Gerät ist zudem komplett wartungsfrei ausgelegt, so dass Anwender eine längere Lebensdauer und minimale Wartungskosten erkennen können. Abschließend ist 1800-6AL Photoresist-Maschine eine ideale Wahl für Anwendungen, die wiederholbare hochpräzise Resistlieferungen und gleichmäßige Nachbelichtungstemperaturen erfordern. Es wurde sowohl im Hinblick auf Prozess- als auch Bedienersicherheit entwickelt und verfügt über eine intuitive Benutzeroberfläche und ausfallsichere Funktionen, wodurch dieses Tool die perfekte Wahl für fortschrittliche Lithographie-Prozesse ist.