Gebraucht VERTEQ 1800-6AL #9255509 zu verkaufen

VERTEQ 1800-6AL Photoresist Equipment ist ein hochpräzises, automatisiertes und flexibles PECVD-System, das bei der Herstellung und Verarbeitung von Halbleiter-, optoelektronischen und biomedizinischen Komponenten verwendet wird. Mit der Verwendung einer fortschrittlichen Röhrenheizkammer ermöglicht das Gerät eine präzise Kontrolle der Photolackchemie, der Abscheideraten und der Gesamtleistung der Maschine. 1800-6AL Tool verwendet eine Vielzahl von Aufdampftechniken, um konforme dünne Fotolackfilme mit ausgezeichneter Filmgleichförmigkeit und Dickenkontrolle mit Reproduzierbarkeit abzuscheiden. Es arbeitet mit einem Multi-Partite-Asset mit einer Wechselstromquelle, Magnetron-Sputtern und einer Hochdruck-PECVD-Kammer, die einen optimierten Betrieb für die Verarbeitung gewünschter Filmstrukturen ermöglicht. Die Wechselstromquelle dient zur Erzeugung eines spannungsgesteuerten elektrischen Feldes in der Entladungskammer zur magnetischen Anregung der Hochdruckprozessgase. Eine Hochleistungs-Magnetron-Sputterquelle dient als Anode zur Erzeugung eines kontrollierten Flusses von energetischen verdampften Tröpfchen aus Photoresistmaterial, die mit den Prozessgasen in der Reaktionskammer reagieren. Die Reaktion der Prozeßgase im Plasma zersetzt die Tröpfchen zu Photoresist und scheidet sie in Form eines dünnen Films auf dem Substrat ab. VERTEQ 1800-6AL Modell ist außergewöhnlich einfach zu bedienen, mit einem speziellen Controller, der es dem Benutzer ermöglicht, die Durchflussrate, den Druck und die Temperatur der Prozessgase einzustellen, sowie die Abscheiderate für die Zielfilmdicke zu überwachen. Die Temperatur des Substrats kann auch mit eigenen Heizgeräten exakt gesteuert werden. Mit diesen hochentwickelten und konfigurierbaren Funktionen hat das Gerät die Fähigkeit, Fotolackfilme konsistenter Dicke, Korngröße und Gleichmäßigkeit bei minimaler Nachbearbeitung genau und zuverlässig abzuscheiden. 1800-6AL bietet auch eine automatische Nivellierung Bequemlichkeit, so dass der Bediener schneller Substrat Umrüstzeiten und schnellere Umrüstzeiten zwischen den Projekten haben. Dieses Merkmal eignet sich insbesondere für größere Photolacksubstrate, die eine automatisierte Niveaueinstellung und Substratausrichtung der Abscheideplatte ermöglichen, wodurch die manuelle Handhabung reduziert wird. Dadurch wird das Risiko menschlicher Fehler erheblich reduziert und der Produktionsprozess gestrafft; letztendlich schnellere Durchsätze und höhere Produktivität ermöglichen. Insgesamt ist VERTEQ 1800-6AL ein fortschrittliches PECVD-System, das eine hochpräzise automatisierte Steuerung der Photoresist-Abscheidung mit ausgezeichneter Filmgleichförmigkeit und Präzision bietet. Mit seiner automatisierten Niveaueinstellfunktion, der überwachten Substrattemperatur sowie der Präzisionsdruck- und Temperaturregelung ist das Gerät ein robustes Werkzeug, das in der Halbleiter-, optoelektronischen und biomedizinischen Geräteherstellung und -verarbeitungsindustrie weit verbreitet ist.