Gebraucht VERTEQ 1800-6AR #9316070 zu verkaufen

ID: 9316070
Weinlese: 1999
Spin Rinse Dryer (SRD) 1999 vintage.
VERTEQ 1800-6AR Photoresist Equipment ist ein hochentwickeltes chemisches Verarbeitungssystem für die automatische chemische Entwicklung und das Ätzen von Photoresist-Schichten, die bei der Herstellung von integrierten Schaltungen und anderen elektronischen Geräten verwendet werden. Diese Einheit besteht aus mehreren Modulen und ist in der Lage, eine Vielzahl von Chemien und Prozessen zu unterstützen. Zu den Modulen gehören ein Entwicklermodul, ein Etchback-Modul, ein Reinraummodul, ein Beschichtungsmodul und ein Abfallwirtschaftsmodul. Jedes Modul ist individuell einsetzbar und kann zu einer vollautomatischen Maschine miteinander verbunden werden. Das Entwicklermodul verwendet chemische Bäder, um den Photolack aus belichteten Bereichen eines Wafers zu entfernen. Der chemische Entwicklungsprozess findet in einer vollständig geschlossenen Kammer statt, so dass alle notwendigen Sicherheits- und Handhabungsbedingungen eingehalten werden. Während des Prozesses wird die Entwicklerlösung in der gesamten Kammer zirkuliert und der Photoresist wird einem chemischen Bad ausgesetzt, das es zum Zerfall und zum Auflösen in die Lösung bringt, wobei Bereiche des Wafers entblößt und für eine zusätzliche Verarbeitung bereit bleiben. Das Ätzmodul dient zur Entfernung von überschüssigem Photoresist, wodurch die Gesamtdicke des Wafers verringert wird. Dieses Verfahren wird üblicherweise in einer geschlossenen Kammer durchgeführt, wo eine chemische Lösung verwendet wird, um den Photoresist von der Waferoberfläche wegzuätzen. Das Verfahren kann hochpräzise und präzise kontrolliert werden, um die gewünschte Resistdicke zu erreichen. Das Reinraummodul sorgt dafür, dass der Photolackprozess in einer sauberen und kontrollierten Umgebung durchgeführt wird, da Verschmutzungen und Rückstände aus chemischen Dämpfen die Qualität der fertigen elektronischen Geräte leicht beeinträchtigen können. Die Luftqualität wird genau überwacht und gefiltert, um Partikel in der Luft zu eliminieren und eine optimale Arbeitsumgebung zu erhalten. Das Beschichtungsmodul dient zur galvanischen Beschichtung von Metallabscheidungen auf den photoresistbelichteten Oberflächen eines Wafers. Dabei wird eine Metallverbindung in einer flüssigen Lösung suspendiert und elektrisch geladen, so daß sich eine dünne Metallschicht auf dem Wafer abscheidet. Schließlich sorgt das Abfallwirtschaftsmodul dafür, dass alle beim Photoresist-Prozess entstehenden gefährlichen Abfallstoffe sicher entsorgt werden. Dabei kann es sich um das Sammeln, Lagern und Transportieren zu einer zugelassenen Abfallentsorgungsstelle handeln. Zusammenfassend ist 1800-6AR Photolackwerkzeug eine chemische Verarbeitungsanlage, die die Herstellung integrierter Schaltungen und anderer elektronischer Geräte ermöglicht. Dieses Modell besteht aus fünf Betriebsmodulen - einem Entwickler, einem Etchback, einem Reinraum, einer Plattierung und einem Abfallwirtschaftsmodul -, die in Kombination einen vollautomatischen Prozess ermöglichen. Die Ausrüstung ist hochpräzise, gewährleistet eine saubere und kontrollierte Umgebung und entsorgt alle gefährlichen Abfälle sicher.
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