Gebraucht VERTEQ 1800 #293760299 zu verkaufen

VERTEQ 1800 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die im Vergleich zu anderen optischen Projektionssystemen eine Verbesserung des Ertragsdurchsatzes um bis zu 25% bietet. Es ist ein vielseitiges Einzelbelichtungswerkzeug, das sich für eine Reihe von Feinlinienlithographieverfahren eignet, einschließlich Einzel- und Doppelmusterung. Das System bietet einen breiten Vergrößerungsbereich von 5x-80x mit hoher Auflösung und Stabilität. 1800-Serie von Photoresist-Systemen verfügen über eine hochleistungsfähige und hochauflösende binäre Projektionsoptik, die extrem effiziente 0,165 Mikrometer-Funktionsgröße bietet. Die Belichtung wird durch bis zu neun Laserdiodenlichtquellen ermöglicht, die maximal 16 Megawatt UV-Leistung zur Erhöhung des Durchsatzes bereitstellen. Die Photoresist-Einheit ist auch in der Lage, BCD-, Düsen- und Wafer-zu-Wafer-Ausrichtungstechniken. Die automatisierten Module von VERTEQ 1800 verfügen über erweiterte Ausrichtungsfunktionen und eine musterbasierte Optimierung für verbesserte Prozesswiederholbarkeit und -genauigkeit. Die Maschine bietet eine automatisierte Multi-User Interface (MUI), die für mehrere Operationen und einen verbesserten Durchsatz verwendet werden kann. Darüber hinaus unterstützt die Software Reverse Tone Exposure (RTE) für präzise analoge Kurvenverteilungen. 1800 verfügt auch über On-Wafer-Spannungsbeschneidung, um überschüssige Spannung über einen Wafer mit minimalen Ausfallzeiten schnell anzupassen. Darüber hinaus ist das Werkzeug mit mehreren intelligenten Sensorschlitzen zur Überwachung der Temperatur, Leistung, Dosis und Wafer-zu-Wafer-Ausrichtung ausgelegt. Diese wachsame Überwachung der Umwelt garantiert eine Planarisierung von Wafern mit schnellerer Tröpfchensetzung und minimaler Kontamination. Das Asset ist auch mit einer präzisen geometrischen Overlay-Fähigkeit ausgestattet, bei der das Mikromodul das Muster erkennen und in der genauen Position ausrichten kann, auch wenn der Großteil der Fläche verzerrt ist. Darüber hinaus sorgt die eingebaute MEMS-Scanner-Technologie im Photoresist-Modell für keine Schleifenverzögerungszeit und die breite Abtastgeschwindigkeit von bis zu 400 Millimetern pro Sekunde für einen einheitlichen Feature-Coverager. Insgesamt bietet die Photolackausrüstung VERTEQ 1800 Funktionen wie optimierte Stabilität, verbesserte Ertragsdurchsätze, automatisierte MUI und hohe Auflösung im Vergleich zu herkömmlichen Systemen. Damit ist das Photolacksystem die ideale Wahl für die Herstellung von Feinlinienlithographieanwendungen.