Gebraucht VERTEQ 2600 #9144776 zu verkaufen

VERTEQ 2600
Hersteller
VERTEQ
Modell
2600
ID: 9144776
Wafergröße: 6"
Megasonic cleaner, 6".
VERTEQ 2600 ist eine Photolackausrüstung der nächsten Generation von VERTEQ Technologies. Mit fortschrittlicher Bildgebungstechnik ist das System in der Lage, hochpräzise oder hochvolumige Fotolackmuster mit exakter Form, Form oder Position unabhängig vom Substrat zu erzeugen. Es ist in der Lage, extrem hochauflösende Photolackmuster mit Mikrogrößen und Genauigkeit zu erzeugen. 2600 Photoresist-Einheit verwendet eine laserbasierte Bildverarbeitungsmaschine, die von einem optischen digitalen Mikroskop präzise geführt wird. Der Laserstrahl wird sektorweise auf die Photomaske gerichtet, wobei selektiv bestimmte Bereiche der Photomaske belichtet und ein Muster im Photoresist erzeugt wird. Der Photolack wird dann einem Entwicklerverfahren zur Entfernung der belichteten Bereiche unterzogen, das als Grundlage für die Entwicklung weiterer Vorrichtungsmerkmale dienen kann. Mit VERTEQ 2600 lassen sich präzise Muster auf extrem dünnen Photolackschichten erzeugen, wie sie für die Mikroelektronik und die MEMS-Anwendung benötigt werden. 2600-Tool verwendet auch hochentwickelte Bildgebungssoftware, um Photomasken aus komplexen benutzerdefinierten Designs zu erstellen. Die Software ist in der Lage, die Merkmale eines Designs automatisch zu erkennen und das entsprechende Muster für die Photomaske mit extremer Auflösung und Genauigkeit zu erzeugen. Die Photomaske wird dann auf das Photoresist-Gießsubstrat übertragen, das auf die VERTEQ-Fokussierstufe gelegt wird, wobei dann die Laservorrichtung verwendet wird, um die Photomaskenschicht schichtweise abzubilden. Mit VERTEQ 2600 profitieren Anwender von hochpräzisen Bildern und einer besseren Prozesssteuerung für Photolackmuster. 2600 Photoresist-Modell ist ideal für Photomaskierung, Mustertransfer, Photolithographie, Planarisierung und andere fortschrittliche Elektronik-Anwendungen. Sein umfassendes Feature-Set und seine erweiterten bildgebenden Funktionen machen es zur perfekten Wahl für Hersteller, die nach präzisen Photoresist-Musterlösungen suchen. Die Ausrüstung ist zuverlässig, einfach zu bedienen und kostengünstig, so dass es eine gute Wahl für jede Anwendung, die präzise Fotolackmuster in hohen Volumen erfordert.
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