Gebraucht VERTEQ MCS-2600-3A-UCX #9196057 zu verkaufen

VERTEQ MCS-2600-3A-UCX Photoresist Equipment ist ein hochmodernes Produktionswerkzeug für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen. Es verwendet eine patentierte, akustisch gekoppelte Kühlkörpertechnologie, um Wärme gleichmäßig über die Oberfläche des Fotolacks zu verteilen. Durch die Aufrechterhaltung eines gleichmäßigen Temperaturfeldes über die gesamte Photolackschicht ist das System in der Lage, hochpräzise Lithographiemuster mit verbesserter Detailgenauigkeit und Genauigkeit zu erzeugen. MCS-2600-3A-UCX verfügt über eine Dual-Fach-Einheit, wobei eine Kammer den akustischen Kühlkörper und die andere mit Dimethyal-Cyanid (DMAC) -basierten Photoresist gefüllt ist. Die beiden Komponenten sind durch einen Schallwandler gekoppelt, der die von der Wärmesenke erzeugte Wärme in den Fotolack überträgt. Beide Kammern sind individuell temperaturgeregelt, um eine gleichbleibende Resisttemperatur über längere Läufe zu gewährleisten. VERTEQ MCS-2600-3A-UCX ist in der Lage, gut definierte Lithographie-Ätzmuster mit kritischen Abmessungen bis zu 0,4 Mikrometer zu erzeugen. Die Maschine verfügt über eine Reihe von Prozessautomatisierungsfunktionen, wie eine vollautomatische Belichtungskammer mit automatischer Be-/Entladung und umfassender Benutzerüberwachung und -steuerung. Es eignet sich für eine Reihe von Anwendungen, einschließlich Halbleiterherstellung, Mustererzeugung von LEDs und optischen Komponenten und Flüssigkristall-Display-Produktion. Neben exzellenter Leistung und Zuverlässigkeit ist MCS-2600-3A-UCX als kostengünstige Lösung für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen konzipiert. Das Tool bietet maximale Betriebszeit und geringe Wartungskosten durch die robuste Konstruktion der Komponenten. Das Modell ist auch in der Lage, Lithographieschablonen mit hohen Geschwindigkeiten mit hochauflösender Bildgebung zu produzieren. VERTEQ MCS-2600-3A-UCX ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die optimale Leistung, Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit für die komplexesten Photolithographie-Prozesse bietet. Es verwendet eine patentierte akustisch gekoppelte Kühlkörpertechnologie, um eine gleichmäßige Resisttemperatur zu erhalten, und ist in der Lage, gut definierte Lithographie-Ätzmuster mit kritischen Abmessungen bis zu 0,4 Mikrometer zu erzeugen. Das System bietet robuste Leistung und Wirtschaftlichkeit und ist damit eine ideale Lösung für fortschrittliche Photolithographie-Anwendungen.