Gebraucht VERTEQ MEGASONIC #9187710 zu verkaufen

VERTEQ MEGASONIC ist eine Photolackausrüstung für Leiterplatten- und Mikroelektronik-Anwendungen. Es verwendet eine spezialisierte Membrantechnologie, um eine dünne Schicht Photolack auf fast jedem Substrat zu befestigen. Dieser Photoresist wird dann durch eine Maske oder direkt mit Licht belichtet, wodurch er bei Belichtung mit dem Licht an bestimmten Stellen aushärtet. Durch diese Aushärtung des Photolacks können diese gewünschten Belichtungsbereiche weggeätzt werden, während die unbelichteten Bereiche intakt bleiben. Das MEGASONIC Photoresist-System ist hochbeständig gegen Wasser, Säure und andere Chemikalien und ist auch für extreme Temperaturen ausgelegt. Dies macht es ideal für den Einsatz in der Hochtemperaturverarbeitung und anderen anspruchsvollen Anwendungen, wo es notwendig ist, Material aus einzigartig geformten Bauteilen mit Präzision zu entfernen. Mit der in der Einheit verwendeten MEMS-Technologie ist es möglich, Fokuspunkte so klein wie Submicrons zu liefern. VERTEQ MEGASONIC Maschine ermöglicht auch die Verwendung verschiedener Arten von Photomasken, die eine präzise und wiederholbare Übertragung von Designs in den Photolack ermöglichen. Damit eignet sich das Werkzeug für Fertigungsanwendungen, bei denen enge Toleranzen und Wiederholbarkeit gewünscht werden. Der Vermögenswert besteht aus mehreren Komponenten. Auf höchstem Niveau bestehen sie aus einer Lichtquelle, Photomasken, der Fotoresisttrommel, Vorreinigungsprozessen, Photomasken-Maskierungsstation, bildgebenden Geräten, Nachreinigungsprozessen und Substratmaterial. Die Lichtquelle des Modells treibt das Gerät an und ist in der Regel je nach Anwendung ein UV-, Infrarot- oder Elektronenstrahl. Es ist auch wichtig, die richtige Leistung, Intensität und Spotgröße für den gewünschten Job zu haben. Photomasken werden verwendet, um das Licht in den Fotolack zu lenken und eine präzise Abbildung zu ermöglichen. Sie bestehen typischerweise aus einer Reihe von Mustern auf einer Transparenz, um das Licht auf die gewünschten Bereiche zu lenken. Die Fotoresisttrommel ist ein Gerät, auf dem die Kameras platziert sind, um die Bildgebung zu ermöglichen. Die Trommel dreht sich mit hohen Geschwindigkeiten, was Belichtungszeiten von weniger als einer Sekunde ermöglicht. Vorreinigungsprozesse entfernen Partikel oder Verunreinigungen von der Photolackoberfläche, bevor sie belichtet werden. Dadurch wird sichergestellt, dass keine Partikel oder Verunreinigungen die Bildqualität beeinflussen. Die Abbildungsstation dient dazu, die Fotomaske und das Substrat in den Abbildungsweg zu leiten. Die Abbildungsstation ist typischerweise mit Inspektionskameras ausgestattet, um eine Qualitätsbelichtung oder ein sauberes Substrat zu gewährleisten, bevor der Fotolack aufgebracht wird. Die Nachreinigungsverfahren werden eingesetzt, um Rückstände aus dem Verfahren zu entfernen, die nach der Exposition auf der Thephotoresistoberfläche verbleiben können. Dies ist erforderlich, um sicherzustellen, dass die Photolackschicht vollständig fehlerfrei ist. Das für das Substrat verwendete Material ist ebenso wichtig wie jede andere Komponente des Systems, da es Temperaturen während des Belichtungsprozesses standhalten kann. Je nach Anwendungsfall können unterschiedliche Materialien wie Polymere, Verbundwerkstoffe oder Metalle geeignet sein. Abschließend ist die MEGASONIC Photolackeinheit ideal für hochpräzise Anwendungen in Branchen, in denen enge Toleranzen und Wiederholbarkeit erforderlich sind. Mit der spezialisierten Membrantechnologie und dem widerstandsfähigen Material ist die VERTEQ MEGASONIC Maschine eine zuverlässige Wahl für viele Leiterplatten- und Mikroelektronik-Anwendungen.