Gebraucht VERTEQ SC300 #9286044 zu verkaufen

Hersteller
VERTEQ
Modell
SC300
ID: 9286044
Wafergröße: 12"
Spin Rinse Dryer (SRD), 12".
VERTEQ SC300 photoresist equipment ist ein modernes Gerät, das in der Halbleiterindustrie eingesetzt wird. Das System besteht aus einem Hochfrequenz-Laserprozessor, Nassentwickler und einer Substratreinigungsstation. Es ist in der Lage, extrem kleine und komplizierte Merkmale auf Halbleiterscheiben genau zu strukturieren. Der Laserprozessor in VERTEQ SC-300 ist ein Festkörperfrequenz-verdoppelter Ytterbium-Faserlaser. Dieser Laser kann im Einzelfrequenzbetrieb eine Impulsbreite von 5 Nanosekunden erzeugen. Es gibt eine maximale 300W der Leistung bei einer Wellenlänge von 515 Nanomentern aus und ist in der Lage, sehr feine und detaillierte Muster auf Wafern bereitzustellen. Der Nassentwickler im Gerät ist ein vollautomatischer Prozess, der die Kontrolle der Entwicklungszeit und Temperatur ermöglicht. Es wurde entwickelt, um die Entwicklung von Photolack zu optimieren und eine schnelle Durchlaufzeit zwischen den Verarbeitungsschritten zu gewährleisten. Die Substratreinigungsstation in der Maschine verwendet ein fortschrittliches Verfahren, um die Entfernung von kleinen Partikeln, Schmutz und anderen Verunreinigungen zu gewährleisten, die auf dem Wafer geblieben sein könnten. SC300 Photoresist-Werkzeug ist ein ausgezeichnetes Werkzeug für die feinste Strukturierung und Herstellung feinerer Merkmale in der Mikroelektronik-Industrie und bietet durch seine reduzierten Zykluszeiten erhebliche Kosteneinsparungen. Mit seinem hochpräzisen Laserprozessor, einem automatisierten Nassentwickler und einer Substratreinigungsstation kann SC-300 Photoresist-Anlage verwendet werden, um qualitativ hochwertige Designs in einem Bruchteil der Zeit zu erstellen.
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