Gebraucht VERTEQ ST600-42T #9126464 zu verkaufen

VERTEQ ST600-42T ist eine spezialisierte Photoresist-Ausrüstung, die für hochpräzise Musterbedürfnisse geeignet ist. Dieses System wird um eine Abscheidekammer gebaut, die mit einem vollständig integrierten Rastertunnelmikroskop (STM) ausgestattet ist. Die STM-Sonde kann verwendet werden, um Photolackmaterial während der Aushärtungsprozesse, automatische Ausrichtungsprozesse und andere kritische Operationen zu injizieren und zu überwachen. Dadurch wird sichergestellt, dass Resistdicke und Profile mit einer Genauigkeit von bis zu 1 Nanometer erhalten bleiben. Die fortschrittlichen Bewegungssteuerungssysteme und die gut konzipierte Software des Geräts ermöglichen es Benutzern, präzise Muster auch auf gekrümmten Oberflächen zu erzeugen. Die Einheit unterstützt auch mehrere Ebenen der Strukturierung und bietet Kontrolle über Raum, Höhe, Breite, Orientierung und Größe. Dadurch wird sichergestellt, dass Muster auf ein Substrat aufgebracht werden können, um den Spezifikationen einer beliebigen Anwendung zu entsprechen. ST600-42T ist mit einer gasgekühlten Xenonlampe ausgestattet. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, die Leistungsabgabe und Belichtungsdauer an ihre Prozessparameter anzupassen. Darüber hinaus hilft eine eingebaute optische Ausrichtungsmaschine dem Benutzer, die Muster genau auszurichten und zu steuern, für mehr Präzision. Zum Werkzeug gehört auch ein Hochgeschwindigkeits-Substratlader. Mit diesem Lader können Benutzer schnell zwischen Substraten wechseln und so Ausfallzeiten und Verschleiß reduzieren. Die Anlage wurde speziell für Reinraumumgebungen entwickelt und verfügt über eine Reihe von Sicherheitsfunktionen, darunter eine Gasmaske und ein Brandschutzmodell. VERTEQ ST600-42T bietet hervorragende Leistung und hohe Erträge. Mit jahrelanger Erfahrung in der Photolithographie haben VERTEQ-Ingenieure eine Ausrüstung entwickelt, die die anspruchsvollsten Musteranforderungen erfüllen kann. Dieses System ist sehr empfehlenswert für jedes Unternehmen, das eine Strukturierung von hochpräzisen Resistschichten über große Flächen und/oder dünne Substrate erfordert.