Gebraucht VERTEQ ST600 #9096618 zu verkaufen

VERTEQ ST600 ist eine Photoresist-Ausrüstung zur präzisen Laserstrahlbelichtung von lichtempfindlichen Harzen auf Wafern, die in der Mikroelektronikindustrie eingesetzt werden. Es basiert auf dem Stepper-Prinzip und verfügt über eine Feldgröße von bis zu 6 Zoll und eine Schrittbewegungsgeschwindigkeit von bis zu 600 mm/s. Das System verfügt zudem über ein integriertes Netzteil mit einstellbaren Leistungsstufen und Pulslängen, um eine präzise Steuerung des Belichtungsprozesses zu ermöglichen. Die Einheit besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Schrittschalter mit integrierter Laserquelle, einem Objekttisch und einem Waferhalter. Die Schritt- und Laserquelle sind mit Standard-Laserquellen wie HeNe, CO2 und Ar-Designs kompatibel. Der Stepper erstellt ultrafeine Bilder auf der Waferoberfläche mit einer Mindestformelementgröße von 0,3 μ m. Der Objekttisch wird verwendet, um den Wafer während der Belichtung an Ort und Stelle zu halten, während der Waferhalter funktioniert, um den Wafer an Ort und Stelle zu sichern. Die Maschine verfügt auch über integrierte Bildgebungs- und Steuerungssoftware, die es den Bedienern ermöglicht, die Einstellungen von Schritt- und Laserquellen zu programmieren, einzustellen und zu beobachten. Diese Software ermöglicht es dem Benutzer, Bilder einfach zu erstellen, die Belichtung und die Laserpunktgröße anzupassen und Belichtungsparameter zu programmieren. Darüber hinaus ermöglicht es dem Bediener, Prozessparameter zu optimieren, um gewünschte Muster auf dem Wafer zu erzeugen. VERTEQ ST 600 verfügt zudem über ein integriertes Vakuumwerkzeug, das eine genaue Bildgebung gewährleistet. Es wurde entwickelt, um den Wafer während des Belichtungsprozesses flach und an Ort und Stelle zu halten und ein präzises und konsistentes Muster auf dem Wafer zu liefern. Der Wafer wird auch automatisch auf die Mitte des Schrittdetektors ausgerichtet, wodurch mögliche Fehlstellungen während des Betriebs vermieden werden. Insgesamt ist ST600 ein hochentwickelter und zuverlässiger Photoresist für die Belichtung von lichtempfindlichen Harzen auf Wafern. Es bietet eine Feldgröße von bis zu 6 Zoll und eine Schrittbewegungsgeschwindigkeit von bis zu 600 mm/s, wodurch es für Hochgeschwindigkeitsoperationen und eine präzise Laserstrahlbelichtung geeignet ist. Das Modell verfügt auch über integrierte Bildgebungs- und Steuerungssoftware sowie eine integrierte Vakuumausrüstung, die zuverlässige und genaue Belichtungsergebnisse ermöglicht.