Gebraucht VERTEQ ST800-41L #9157379 zu verkaufen

VERTEQ ST800-41L ist eine leistungsstarke, kostengünstige Photolackausrüstung, die speziell für mikroelektronische Fertigungsprozesse entwickelt wurde. Das System verwendet eine Kombination aus fortschrittlichem UV-Licht, Optik und photochemischen Prozessen, um Präzisionsmasken für die Strukturierung auf der Oberfläche des Substrats zu erstellen. Eine solche Photolackeinheit besteht aus einer ultravioletten Lichtquelle, einer Optik, die das Licht auf die Substratoberfläche fokussiert, und einem Verfahren zur chemischen Wechselwirkung zwischen UV-Licht und Substratmaterial. Das fortschrittliche UV-Licht des ST800-41 L stammt aus einer der zuverlässigsten, robusten und langlebigen SCR ManLab Bogenlampen, die es gibt. Dieses Licht wird durch eine fortschrittliche optische Fokussiermaschine optisch konzentriert, die speziell für das UV-Lithographieverfahren konzipiert ist. Dieses Fokussierwerkzeug garantiert, dass die Belichtungsfeldgröße genau und konsistent ist und präzise Muster auf der Substratoberfläche erzeugt. ST800-41L kommt auch mit einem integrierten SPS-Controller für einfache Bedienung. Über den Controller können Anwender die Lichtintensitätswerte während des Belichtungsprozesses genau überwachen und die korrekte Belichtungsdauer beibehalten. Darüber hinaus ist die Anlage mit Sicherheitsmerkmalen zur Verhütung von Unfällen und unvorhergesehenen Vorfällen ausgestattet. Das Photoresist-Modell bietet auch eine einstellbare automatische Maskenabscheidungsfunktion, mit der Benutzer die Menge des auf das Substrat aufgebrachten Resists steuern können. Die automatische Maskenabscheidung ist wichtig, um sicherzustellen, dass die Resistschicht über den Anwendungsbereich einheitlich ist und sogar verwendet werden kann, um mehrere Masken im gleichen Prozess herzustellen. VERTEQ ST800-41L ist eine fortschrittliche, kostengünstige Lösung für mikroelektronische Fertigungsprozesse. Die in der Ausrüstung kombinierten Komponenten ermöglichen eine präzise Lithographie mit präziser und genauer Strukturierung und die integrierte SPS-Steuerung ermöglicht eine schnelle und einfache Bedienung. Darüber hinaus ermöglicht das einstellbare Auto-Masken-Abscheidungssystem den Anwendern die genaue Steuerung des Resist-Applikationsprozesses für präzise und gleichmäßige Ergebnisse.