Gebraucht VERTEQ SuperClean 1800 #9266842 zu verkaufen

VERTEQ SuperClean 1800 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung für die naßchemische Verarbeitung von Halbleiterscheiben. Dieses automatisierte System ist in der Lage, Reinigungs- und Ätzprozesse mit höchster Präzision und Genauigkeit durchzuführen. SuperClean 1800 verwendet ein patentiertes, dreistufiges Reinigungs- und Ätzverfahren, um eine überlegene Entfernung aller Verunreinigungen, Rückstände und anderer Partikel zu gewährleisten und gleichzeitig eine genaue Kontrolle über die Dicke der Endschicht zu gewährleisten. VERTEQ SuperClean 1800 ist eine industriell zertifizierte Einheit, die überlegene Wafer-Sauberkeit gegenüber herkömmlichen Labormethoden bietet. Die Maschine verwendet eine spezielle Lösung, um den Wafer zu reinigen und gleichzeitig Partikel oder Rückstände wegzuätzen. Die Reinigungslösung ist darauf ausgelegt, Rückstände schnell abzubauen, während der Ätzvorgang restliche Partikel entfernt. Dieser Vorgang wird dann zweimal wiederholt, wobei jedes Mal die Tiefe des Ätzens erhöht wird und gleichzeitig höchste Sauberkeit und Präzision gewährleistet werden. SuperClean 1800 Werkzeug ist auch entworfen, um verschiedene Arten von Fotolack zu handhaben, einschließlich SU-8, AZ P4620 und 1614 DUV. Das Asset verfügt über einen einzigartigen automatisierten Prozess, der in der Lage ist, bis zu 400 verschiedene Fotolacke ohne manuelle Arbeit zu handhaben. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolacke mit höchster Präzision und Genauigkeit ordnungsgemäß gereinigt und geätzt werden, wobei auch mögliche Verschmutzungen oder Fehler im naßchemischen Prozess vermieden werden. Darüber hinaus ist das VERTEQ SuperClean 1800 Modell auch in der Lage, eine enge Partikelkontrolle mit einer einzigartigen Partikelvalidierungsfunktion zu ermöglichen. Diese Funktion ermöglicht es Benutzern, regelmäßig die Sauberkeit ihrer Wafer zu überprüfen und sicherzustellen, dass sie frei von Partikeln oder Rückständen sind. Durch den Einsatz dieser automatisierten Ausrüstung können Anwender sicher sein, dass ihre Wafer sauber und von höchster Qualität sind. Insgesamt ist SuperClean 1800 ein fortschrittliches Photoresist-System, das überlegene Geschwindigkeit, Genauigkeit und Qualität für eine hochpräzise nasschemische Verarbeitung bietet. Mit seinem automatisierten Prozess, der detaillierten Partikelvalidierungsfunktion und der hervorragenden Kompatibilität mit verschiedenen Photolackmaterialien können Anwender auf zuverlässige, konsistente Ergebnisse vertrauen.