Gebraucht VON ARDENNE Pia Nova #9279044 zu verkaufen

VON ARDENNE Pia Nova ist eine Fotoresistausrüstung, die vom Vakuumbeschichtungsgerätehersteller VON ARDENNE entwickelt wurde. Es ist eine Art Photolack, der bei der Herstellung von Nanostrukturen auf Halbleiterscheiben verwendet wird. Pia Nova-System verwendet eine Kombination aus fortschrittlichen Materialien und Produktionstechnologien, um eine ultrahochauflösende Abscheidung von Photolack auf einem Wafer zu ermöglichen. VON ARDENNE Pia Nova Photoresist Unit verwendet eine proprietäre Technologie namens „Creationthrough Subtractive Deposition (CSD)“. Auf diese Weise kann Photolack mit einem Minimum an Abfall und mit einer sehr dünnen, gleichmäßigen Abscheidung abgeschieden werden. Das CSD-Verfahren beinhaltet die Verwendung einer „übergeordneten“ gestapelten Photolackschicht aus mehreren Schichten dünner Filme, von denen die erste eine dünne Schicht aus PMMA (Poly-methylmethacrylat) ist. Dieser Grundfilm wird dann einem Plasmastrahl ausgesetzt, der die unteren Schichten wegätzt, um die gewünschten Nanostrukturen zu definieren. Nach dem Ätzvorgang kann die Pia Nova-Maschine dann die geätzten Nanostrukturen mit einer dünnen, gleichmäßigen Schicht der Photoresistschicht füllen. Die Lackschicht, die abgeschieden wird, wird vom Benutzer bestimmt, und VON ARDENNE Pia Nova Werkzeug kann Widerstandsschichten entweder in einer dünnen kontinuierlichen Schicht oder in mehreren kleineren, dickeren Schichten abscheiden. Die Fähigkeit, mehrere Schichten von Photolack Abscheidung ermöglicht die komplexe Konstruktion und Herstellung von hochauflösenden Komponenten. Pia Nova asset verwendet ein patentiertes Tablett-bezogenes Verarbeitungsmodell, um eine robuste und präzise Resist-Anwendung zu bieten. Die Schalen sind beständig gegen Peroxid und umweltfreundliche Stoffe, was bedeutet, dass sie in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt werden können. Es verwendet auch eine Vakuumabscheidungstechnologie, um sicherzustellen, dass die Abscheidung des Photolacks gleichmäßig und konsistent über den Wafer ist. Schließlich bietet VON ARDENNE Pia Nova Geräte volle thermische Kontrolle, was bedeutet, dass der Benutzer in der Lage ist, die Temperatur der Resistschicht während des Auftragsprozesses genau zu steuern. Dadurch wird sichergestellt, dass die Photolackschicht im gesamten Wafer konsistent und gleichmäßig dick abgeschieden wird, was die Qualität und Genauigkeit der Nanostrukturen weiter verbessert. Das Photoresist-System Pia Nova ist eine fortschrittliche Einheit, die dem Anwender eine präzise, zuverlässige und wirtschaftliche Möglichkeit bietet, hochwertige Nanostrukturen für die Halbleiterindustrie herzustellen. Mit seiner Kombination aus fortschrittlichen Materialien und Produktionstechnologien ist VON ARDENNE Pia Nova eine ideale Maschine zur Herstellung von Nanostrukturen mit hoher Genauigkeit und Präzision.