Gebraucht VPT Argus 58 #9199501 zu verkaufen

Hersteller
VPT
Modell
Argus 58
ID: 9199501
Optical coater, 58" Chamber: Width: 58" Depth: 28" Water-cooled chamber Stainless steel (2) Opening doors Integrated stand Vacuum pumping system: Pumping system for chamber includes: EDWARDS GXS 160/1750 Dry pump and blower package (2) PFEIFFER ALCATEL ATP 2804 Maglev turbo-pumps CTI CT10 Cryo pump ADIXEN ALCATEL ADS-501 Dry pump \ blower package Substrate fixture system: (6) Diameter planets, 16" Process system: (3) MAGNETRON DC Sputters, 8" (3) ADVANCED ENERGY 10 kW power supplies (2) Sputtering cathodes co-sputtering function (3) SIERRA APPLIED SCIENCE INC Sputtering cathode, target 8" diameter (203.2 mm) CCR Cobra DN 400 RF-Plasma Source, 16" ADVANCED ENERGY 13.56 MHz RF Power supply 5.5 kW (4) VPT 2 kW Quartz lamp heaters Type J thermo couple probe INFICON XTC-3 With (6) crystal heads Ion current monitoring: Faraday cup Power systems includes: Integrated power distribution enclosure PC \ PLC Based control system: Factory talk Human Machine Interface (HMI) ALLEN BRADLEY Logix PLC controller Utility requirements: Power supply: 208 VAC, 65 kVA, 50/60 Hz.
VPT Argus 58 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für Wafer-Herstellungs- und Mikrolithographie-Anwendungen entwickelt wurde. Das System ist in der Lage, hochauflösende Bilder mit einer Auflösung von bis zu dem Fünffachen herkömmlicher Werkzeuge zu erzeugen und bietet gleichzeitig eine hohe Wiederholbarkeit und eine extrem niedrige UV-Belichtungszeit. Das Gerät ist in der Lage, bei niedrigem Resistdruck und niedriger UV-Exposition zu arbeiten, was eine genaue Strukturierung von mikro- und nanoskaligen Merkmalen ermöglicht. Die Maschine verwendet einen Helium-Neon-Laser, um lichtempfindliche Moleküle in kontrollierten Mustern auf den Wafer abzuscheiden. Daraus ergeben sich hochgenaue und konsistente Muster, die für mikrolithographische Anwendungen entscheidend sind. Das Werkzeug eignet sich für eine Vielzahl von Aufgaben wie Photolithographie, Lasermuster und Resistbeschichtung. Das Asset beinhaltet einen 12-Zoll-Schritt-/Scanner zur Waferausrichtung und präzisen Resist-Abscheidung. Es ist auch mit einem computergesteuerten Laserstrahl-Punktgrößenmodell zur präzisen Strahlsteuerung und einer softwarebasierten Strahlabtasteinrichtung zum Scannen des Resists über die Waferoberfläche ausgestattet. Dies ermöglicht eine Auflösung auf Submikronebene bei Resist-Abscheidung. Argus 58 enthält auch optionale Funktionen wie ein Helium-Neon-Quadrantenmerkmal mit Superauflösung, mit dem Muster zusammen mit einem Spalt von weniger als 10 µm gespleißt werden können; ein automatisches optisches Zentriersystem, das den Wafer genau ausrichtet; ein Cross-Wafer-Synchronisationsmerkmal zur besseren Registrierung lichtempfindlicher Schichten; und eine Opticlock-Einheit zur präzisen Strukturierung. Insgesamt ist VPT Argus 58 ein zuverlässiges Werkzeug für hochauflösende Mikrolithographie-Prozesse. Seine Eigenschaften ermöglichen eine präzise und genaue Strukturierung, was zu ertragreicheren Wafern und erhöhter Produktivität führt. Die Maschine ist einfach zu bedienen und mit einer großen Anzahl von Photolackmaterialien kompatibel. Argus 58 ist ein unschätzbares Werkzeug für jede Halbleiteranlage und ein Muss für die Herstellung der fortschrittlichsten integrierten Schaltungsbauelemente.
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