Gebraucht YSYSTEM Ywafer G54-R visnir #293627975 zu verkaufen

YSYSTEM Ywafer G54-R visnir ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für hochauflösende bildgebende Anwendungen entwickelt wurde. Es nutzt hochmoderne Bildgebungsfunktionen, um höchste Auflösung, Genauigkeit, Konsistenz und Bildqualität zu erreichen. Dieses System basiert auf der Visnir-Beleuchtungseinheit und enthält das Ywafer-Substrat, um eine hervorragende Leistung in der Lithographie zu liefern. Die Maschine bietet eine hervorragende Handhabungsauflösung und ermöglicht die Herstellung äußerst komplizierter Muster mit minimalen Verzerrungen. Ywafer G54-R Visnir-Tool verwendet mehrere Linsen, kombiniert mit einer erweiterten Beleuchtung und einer fortschrittlichen Oberflächenbehandlung, um eine optimierte Photolackschicht auf dem Substrat zu erstellen. Das Verfahren beinhaltet das Auftragen eines speziellen Behandlungsmittels auf die Waferoberfläche, gefolgt von einer Vorbehandlung zur Verbesserung der Benetzbarkeit. Das Behandlungsmittel trägt dazu bei, dass die Oberfläche gleichmäßig ist und verhindert, dass sich ungleichmäßige Muster bilden. Der Vorbehandlungsschritt hilft, die Haftung des Photolacks auf dem Substrat zu verbessern. Das Photoresist-Modell verwendet ein hochauflösendes optisches Belichtungswerkzeug, um extrem komplizierte Muster mit minimalen Ungenauigkeiten zu belichten. Das Verfahren verwendet einen fokussierten Lichtstrahl, um den Photolack auf dem Wafer zu belichten, um gewünschte Muster zu erzeugen. Das Belichtungswerkzeug wird so eingestellt, dass eine gleichmäßige Belichtung über die Oberfläche des Wafers erreicht wird. Das Belichtungswerkzeug verwendet außerdem variable Fokussierung und Öffnungen, um sicherzustellen, dass alle Belichtungsbereiche optimiert sind. Mit YSYSTEM Ywafer G54-R Visnir-Geräten wird dann ein hochauflösender Entwicklungsschritt durchgeführt, um das durch den Belichtungsprozess erzeugte latente Bild zu aktivieren. Der Entwicklerschritt wird durchgeführt, um die Belichtungszeit zu reduzieren und eine möglichst hohe Auflösung zu gewährleisten. Schließlich wird der Resist nach der Belichtung gebacken, um den Lithographieprozess abzuschließen. Ywafer G54-R Visnir Photoresist System ist gut geeignet für eine Vielzahl von bildgebenden Anwendungen einschließlich mikrofluidische Systeme und medizinische Bildgebung. Die hervorragende Leistung des Geräts und seine Fähigkeit, hochauflösende Bilder zu produzieren, haben es zu einer idealen Wahl für viele Branchen gemacht.