Gebraucht YSYSTEM Ywafer mapper GS2 #293627974 zu verkaufen

YSYSTEM Ywafer Mapper GS2 ist eine Fotolackausrüstung von YSYSTEM. Es ist für die präzise Ausrichtung und Belichtung von Dünnschicht-Photoresist-Mustern auf großflächige Substrate ausgelegt. Ywafer mapper GS2 ist ein mikrogesteuertes Auswertesystem mit erweiterten Funktionen, das eine hohe Stabilität und beispiellose Leistung bietet. YSYSTEM Ywafer Mapper GS2 ist eine hochmoderne Photolithographie-Einheit, die die Herstellung hochwertiger Photolackmuster mit hoher Präzision und Genauigkeit ermöglicht. Es verfügt über eine erweiterte Ausrichtmethode mit einer Laserdiodenpositioniermaschine, die eine präzise Ausrichtung auf Substraten jeder Größe ermöglicht. Das Werkzeug wird mit einem Waferrahmen geliefert, der bis zu vier Wafer von bis zu 200mm Größe aufnehmen kann. Der statische Tisch sorgt für eine stabile und schwingungsarme Belichtung der Photolacke auf die Substrate. Die optische Baugruppe des Ywafer-Mappers besteht GS2 aus einer hochauflösenden bildgebenden Linse und einem Verschlusselement. Das Verschlussmodell ermöglicht die Belichtung des Photolackmusters auf den Wafer mit einer schnellen Belichtungszeit von ≤1ms. Die Belichtungszeit ist hoch einstellbar und ermöglicht eine breite Palette von Intensitätsstufen. YSYSTEM Ywafer Mapper GS2 verwendet eine vollständig geschlossene computergesteuerte Belichtungskammer mit einer 4-Zonen-Heizeinrichtung zur Steuerung der Belichtungsumgebung. Das fortschrittliche Temperaturkontrollsystem verwendet Thermoelemente, um eine homogene Belichtungsumgebung und eine gleichmäßige Belichtung der Photoresistmuster über den gesamten Bereich des Wafers zu gewährleisten. Die integrierte Steuerung des Geräts ermöglicht eine einfache Bedienung und leistungsfähige bildgebende Funktionen. Der Controller ist mit einer webbasierten Datenverwaltungsmaschine zur einfachen Konfiguration der Werkzeugeinstellungen und zur Verarbeitung von Belichtungsdaten ausgestattet. Ywafer Mapper GS2 ist eine effiziente und zuverlässige Photolithographie, die die präzise Belichtung von Photoresists auf großflächigen Substraten mit hoher Auflösung bietet. Die erweiterten Steuerungsfunktionen wie das Laserdiodenpositionierungsmodell, die Verschlussausrüstung und das 4-Zonen-Heizsystem sorgen für eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Belichtung von Photoresists.