Gebraucht YUASA LPC-5211 #9392166 zu verkaufen

ID: 9392166
Wafergröße: 5"
Track coater system, 5".
YUASA LPC-5211 ist eine Photoresist-Ausrüstung für die Herstellung von fortschrittlichen gemusterten Schaltungen. Dieses System nutzt eine einzigartige Kombination aus Lithographie und Ätzprozessen, um präzise und komplizierte Muster mit minimalen dimensionalen Rändern zu erzeugen. LPC-5211 verwendet eine Lithographietechnik zur Verwendung von lichtempfindlichem Photoresistmaterial mit einer Maske, um ein Muster auf einem Substrat zu erzeugen. Das verwendete spezifische Photoresistmaterial kann in der Zusammensetzung auf der Grundlage der Anwendung variieren, wobei die häufigsten Photoresists Epoxysäure wie Polymethylmethacrylat (PMMA) sind. Das Photolackmaterial wird mit Licht aus der Maske belichtet und alle konformen Bereiche des Photolacks verbleiben, während die verbleibenden Bereiche des Substrats einem Ätzprozess zum Entfernen von Material ausgesetzt werden. Das Gerät verfügt über einen 15 "Stepper/Scanner, der eine Musterauflösung von bis zu 5 µm und eine Stufenauflösung von 2 µm bietet. Diese Auflösung wird weiter durch ein einzigartiges zweidimensionales Laserinterferometer erhöht, das eine sehr präzise Strukturierung und Ausrichtung während des Belichtungsschritts ermöglicht. Der Ätzprozess von YUASA LPC-5211 verwendet eine Plasmaätzmaschine auf Sauerstoffbasis, die einen Hochleistungs-Mikrowellengenerator enthält, um hohe Ätzraten und kontrollierte Tiefen bereitzustellen. Das Werkzeug bietet eine beeindruckende Ätzrate von bis zu 0,6 µm/Minute und eine Ätztiefe von bis zu 1 µm bei einer einstellbaren Leistung von 10-40 Watt. LPC-5211 verfügt zudem über zahlreiche Sicherheitsfunktionen wie Gasflusssteuerung, Vakuumüberwachung und Temperaturregelung, um sichere und genaue Photoresist-Belichtungs- und Ätzprozesse zu gewährleisten. Die Anlage ist auch in der Lage, Selbstfehlerdiagnose und automatische Abschaltung, wenn ein Fehler erkannt wird, um kostspielige Schäden zu verhindern. Insgesamt ist YUASA LPC-5211 ein zuverlässiges und anspruchsvolles Photolackmodell, das für die Herstellung von hochwertigen und komplizierten Schaltungen entwickelt wurde. Seine hohe Auflösung, seine überlegene Ätzrate und seine Sicherheitsfunktionen machen es zur idealen Ausrüstung für eine Vielzahl von Photoresist-Anwendungen.
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