Gebraucht YUASA LPD-182 #293748586 zu verkaufen

YUASA LPD-182 ist eine hochwertige Photolackausrüstung, die hauptsächlich für Wafertechnologien wie Mikroelektronik, Biotechnologie und Photolithographie verwendet wird. Sie besteht aus drei Komponenten: lithographischem Photoresist, einer Resiststreifenlösung und einer Entwickler-/Lösungslösung. Die Resiststreifenlösung dient zur Entfernung von Oberflächenverunreinigungen, während die Entwickler-/Lösungslösung den Photoresist und unerwünschte Nebenprodukte entfernt. LPD-182 Photoresist-System ist aufgrund seiner niedrigen kV-Lithographie und seiner niedrigen Temperatur, hochwertige Wafer sehr zuverlässig. Die kurze Wellenlänge der Photolackeinheit ermöglicht es, Merkmale zu schaffen, die leicht aufgelöst und auf Substrate gemustert werden können. Diese Maschine ist besonders effektiv, um qualitativ hochwertige, kleine Funktionen in der Größenordnung von 1-5 Mikrometer zu erzeugen, was sie ideal für mikroelektronische Anwendungen macht. Aufgrund der niedrigen Temperatur und der niedrigen kV-Lithographie erfordert das YUASA- LPD-182-Werkzeug keine Litho-Ätzung, spart Zeit, Energie und Kosten. LPD-182 Photoresist-Asset bietet einen hohen Durchsatz, Sauberkeit, Gleichmäßigkeit und verbesserte Lichtempfindlichkeit. Darüber hinaus ermöglicht das Modell mit seinem Low-kV-Lithographieverfahren eine leichtere Strukturierung auf der Substratoberfläche und ermöglicht eine höhere Prozessflexibilität. Die Resiststreifenlösung erleichtert eine gleichmäßige Oberflächenreinigung und entfernt organische Oberflächenverunreinigungen auf Glas und Siliziumscheiben. Anschließend wird der Wafer vorgebacken, um restliche Verunreinigungen zu entfernen und die Oberfläche für die Strukturierung vorzubereiten. Die Photolackausgabe erfolgt dann über eine Abgabemaschine. Sie beginnt mit dem Verzicht auf eine sehr geringe Menge eines lithographischen Photolacks auf das Substrat. Dies geschieht, indem der Abgabekopf mit dem Substrat in Kontakt gebracht und dann unter Aufrechterhaltung eines konstanten Kontakts schnell bewegt wird. Durch dieses Dispense-Verfahren wird die Menge der Photolackbeschichtung des Wafers minimiert und damit die Musterungleichförmigkeit verringert. Das Substrat wird dann einer Lichtquelle ausgesetzt, die die Vernetzung der Photoresistmoleküle auslöst. Die gesammelten Photonen bewirken eine Erhöhung der Energie der Photoresistmoleküle, die ihre Bindungen schwächen und ihnen eine Vernetzung ermöglichen. Diese Vernetzung wird auch durch ein alternierendes Spinnen des Substrats verstärkt. Nach dem Belichten wird das Substrat dann mit der Entwickler-/Lösungslösung gewaschen. Die Entwickler-/Lösungslösung entfernt den Photolack sowie alle anderen unerwünschten Nebenprodukte. Der in YUASA LPD-182 Photoresist-Geräten verwendete Entspannungsschritt verbessert auch die Haftung zwischen Substrat und Photoresist. Schließlich wird Nachbacken verwendet, um eine zusätzliche Aushärtung des Photolacks zu gewährleisten. Die Backtemperatur LPD-182 Systems kann in Abhängigkeit von den gewünschten Mustereigenschaften eingestellt werden. Die vertikalen Linien, scharfen Kanten und hohe Ausbeute aus YUASA LPD-182 Einheit machen es zu einer sehr begehrten Photolackmaschine für mikroelektronische Anwendungen.