Gebraucht YUASA Unicorn #293748587 zu verkaufen

YUASA Unicorn ist eine Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um hochwertige, chemisch verstärkte positive Resistmuster auf Halbleiter-, mikroelektronischen und integrierten Schaltkreissubstraten (IC) zu produzieren. Das von YUASA Electron entwickelte Photoresist-System verwendet eine Ultraviolett-Lichtquelle in Synchrotron-Qualität, um eine Photoresist-Formulierung zu aktivieren; dadurch entsteht eine gemusterte Substratoberfläche mit hohem Seitenverhältnis, geringer Fehlerdichte und verstopfungsfreien Ätzeigenschaften. Diese Einheit erfordert keine Verwendung von zusätzlichem Maskierungsmaterial, was die direkte Erstellung anspruchsvoller Layouts ermöglicht. Einhorn-Photoresist-Maschine verwendet ein Ascheverfahren; dies beinhaltet die direkte oder indirekte Nutzung von Energie, wie Wärme oder Elektronenstrahl, um eine Photoresistbeschichtung zu zersetzen. Das Aschen entfernt Verunreinigungen und Rückstände von der Substratoberfläche für gleichmäßigere Musterstrukturen und überlegene Resisthaftung an der Oberfläche. YUASA Einhorn-Werkzeug produziert qualitativ hochwertige Substratoberflächen; Der ultradünne Resist-Film liefert die höchstauflösenden Bilder, wodurch die Fehlerdichte direkt reduziert wird. Darüber hinaus bietet das hohe Aspektverhältnis der Resiststrukturen eine ausgezeichnete Haftung und Verträglichkeit mit dem Ätzverfahren. Darüber hinaus sorgt Unicorn Asset für hervorragende Wiederholbarkeit und eignet sich somit für Massenproduktionsprozesse. Die Flexibilität des YUASA Unicorn Photoresist Modells ermöglicht die einfache Einstellung der Photoresist Formulierungen; Dies bietet eine größere Vielseitigkeit bei der Erstellung komplexer Muster, einschließlich der Erstellung von kleinen feinen Linienmustern. Darüber hinaus erzeugt die Verfügbarkeit einer umfassenden Auswahl der Resistformulierungen maßgeschneiderte Resistmuster für spezifische Verarbeitungsanwendungen. Insgesamt ist Einhorn-Photoresist-Ausrüstung ein effektives und zuverlässiges Werkzeug für die Herstellung von hochauflösenden und hohen Seitenverhältnismustern. Mit seiner vielfältigen Prozess- und Substratkompatibilität ermöglicht es die Verarbeitung unterschiedlichster ICs und Mikroelektronik und ermöglicht die Massenproduktion von hochwertigen und komplexen Substraten.