Gebraucht YUASA Unicorn #293806434 zu verkaufen

YUASA Unicorn ist eine Fotoresistausrüstung, die vom japanischen Hersteller YUASA Corporation entwickelt und produziert wurde. Es ist eines der beliebtesten Photoresist-Systeme in der Branche, für verschiedene Anwendungen wie Wafer-Level-Verpackung und MEMS verwendet. Einhorn-Photoresist-System besteht aus vier Teilen. Der erste Teil ist das Photolackmaterial. Das von YUASA Unicorn verwendete Photoresist-Material ist ein positiver Photoresist auf Acrylbasis, der eine hohe Auflösung und ausgezeichnete Ätzfestigkeit aufweist. Diese Eigenschaften machen es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen, wie Niedertemperaturätzen, Halbleiterbauelementherstellung, MEMS und Wafer-Ebene Verpackung. Der zweite Teil der Maschine ist die Belichtungseinheit. Die Belichtungseinheit besteht aus dem linear bewegungsgesteuerten Strahlintegrator von Unicorn, der ein maßgeschneidertes Quarzfenster enthält, mit dem die Intensität der E-Strahlung reduziert werden kann. Dies reduziert die Musterverzerrung und ermöglicht eine hochauflösende Bildgebung. Der dritte Teil des Werkzeugs ist die Entwicklungseinheit. YUASA Unicorn Asset verwendet eine fortschrittliche wässrige Entwicklungslösung, um den belichteten lichtempfindlichen Film zu entfernen. Diese Lösung bietet eine hervorragende Auflösung und Ätzfestigkeit und erzeugt auch minimale Rückstände. Die letzte Komponente des Unicorn-Modells ist der Schutzschichtapplikator. Dadurch wird eine dünne Schutzschicht über dem Photolack aufgebracht, die ihn vor schädlicher UV-Strahlung, physikalischen Schäden und Feuchtigkeit schützt. Diese Schicht ermöglicht die sichere Speicherung und Handhabung des Photolacks und verhindert eine Musterverzerrung während der Verarbeitung. Insgesamt ist YUASA Unicorn Photoresist eine effiziente und zuverlässige Lösung für eine Vielzahl von Anwendungen. Seine hohe Auflösung und ausgezeichnete Ätzfestigkeit machen es ideal für verschiedene Anwendungen, einschließlich Halbleiterbauelementherstellung, Wafer-Level-Verpackung und MEMS. Die fortschrittliche Entwicklungslösung auf wässriger Basis bietet eine hervorragende Auflösung und Ätzfestigkeit und erzeugt minimale Rückstände. Ihre Schutzschicht sorgt dafür, dass der Photolack sicher gelagert und gehandhabt werden kann.