Gebraucht ZEISS A20 #9245012 zu verkaufen

Hersteller
ZEISS
Modell
A20
ID: 9245012
AR Coater system Thermal source (I Model) Mark 11 Ion source (4) Sector plates.
ZEISS A20 Photoresist Equipment ist ein halbautomatisches System, das die Entwicklung von Photoresists für die Mikrofertigung erleichtert. Es verfügt über ein einzigartiges integriertes Design, das eine präzise automatisierte Steuerung der Lichtbelichtung ermöglicht, und verfügt über eine integrierte CO2-Lasereinheit, die eine hochauflösende Belichtung von Photolacksubstraten ermöglicht. Die Fotolackmaschine A20 ist aus Edelstahl gefertigt und verfügt über ein ergonomisches Design mit integriertem Touchscreen, der eine präzise automatisierte Steuerung der Belichtungsparameter ermöglicht. Es bietet sowohl einstufige als auch mehrstufige Belichtung und verfügt über eine Dual-Stage Digital Signal Processing (DSP), die einen hochgenauen Belichtungspegel bietet. Zusätzlich ermöglicht das Werkzeug eine präzise Steuerung von Punktgröße, Strahlpolarisation/-orientierung, Verschlussgeschwindigkeit und Intensität. Für die einstufige Belichtung nutzt ZEISS A20 Photoresist Asset bis zu fünf CO2-Laserquellen, die über die Touchscreen-Schnittstelle gesteuert und eingestellt werden. Beim Ausführen einer mehrstufigen Belichtung enthält das Modell einen programmierbaren Controller, mit dem die Belichtungszyklusmuster angepasst werden. Der CO2-Laser des Geräts bietet hochauflösende Belichtung von Photolacksubstraten, mit einer hohen Fotorate auch bei niedrigeren Spannungen, und der ultradünne Laser bietet noch genauere und gerichtete Belichtungen. Die Präzision und Genauigkeit des Photolithographie-Prozesses wird ebenfalls verbessert, da das Substrat automatisch für jede Belichtung ausgerichtet wird und eine präzise Registrierung gewährleistet ist. Das Photoresist-System A20 umfasst auch eine automatische Reinigungsstation für die Substratoberflächenbehandlung und einen Reinraum für den Photoresist-Beschichtungsprozess. Der Reinraum ist mit Stickstoff gefüllt, um die Dimensionsstabilität des Photolacks auf dem Substrat zu gewährleisten. ZEISS A20 Photoresist Unit bietet modernste Mikrofabrikationstechnologie und ist damit ideal für eine Vielzahl von Anwendungsbereichen, darunter fortschrittliche Optoelektronik, Mikrofluidik und biomedizinische Geräte.
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