Gebraucht ZEISS A20 #9259775 zu verkaufen

ZEISS A20 Photoresist Equipment ist eine leistungsstarke, modulare Lithographiemaschine für nanoskalige Photolithographieanwendungen. Es ist ideal für die Herstellung von hochdichten elektronischen (HDI) Schaltungen und Speicherchips sowie für die fortgeschrittene Materialforschung. A20 ist in der Lage, Bildfunktionen Größe bis zu 12 nm mit Auflösung, Feature-Erfassung und Genauigkeit, so dass es eines der Top-Photolithographie-System mit der höchsten Qualität Spezifikationen. ZEISS A20 ist mit fortschrittlicher Abbildungsoptik und einem Mikromustergenerator für Bilder höherer Auflösung ausgestattet. Die Maschine umfasst ein direktbelichtetes Feinausrichtungswerkzeug (DFFA) und einen Vakuumbelichtungsbereich, der eine kontinuierliche Bildgebung auf 6 „-Wafern und anderen Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 15“ ermöglicht. Die automatisierte Steuerung bietet eine hohe Wiederholbarkeit und verbesserte Zykluszeiten mit automatisierter Be- und Entladung von Wafern. Darüber hinaus macht die intuitive Benutzeroberfläche das Modell für alle Benutzer einfach zu bedienen. Diese Ausrüstung ist mit vielen Funktionen ausgestattet, um die Präzision und Genauigkeit der Produktion zu erhöhen, einschließlich einer Metastufe für die Feinausrichtung des Wafers auf dem Substrat, ein automatisiertes Merkmalserkennungssystem, das die Musterverzerrung minimiert, und ein Hochleistungsvergleichsmikroskop mit einer bordeigenen Metrologieeinheit, die Merkmalsposition, Orientierung, Größe und Forminformation mit niedrigem Geräuschpegel anzeigt. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, Metastufen zu scannen, wodurch Anwender schnell mehrere Orte auf optimale Bildgebungsergebnisse überprüfen können. A20-Werkzeug hat die Flexibilität, eine Vielzahl von Resistformulierungen zu verwenden, sowie eine breite Palette von Prozesschemie. Es ist auch in der Lage, mehrere Prozessschritte wie Spin Coating, Weichbacken, Pre-Imaging und Post-Imaging durchzuführen, die alle mit modernsten Softwaresystemen automatisiert werden können. Darüber hinaus verfügt der Vermögenswert über eine breite Palette von Expositionsquellen, darunter Argonfluorid, Kryptonfluorid und YAG-Laserquellen. Insgesamt ist ZEISS A20 Photoresist Model eine fortschrittliche Photolithographie-Ausrüstung, die Anwendern höchste Auflösung und Genauigkeit für extrem präzise Mikromuster bietet. Es verfügt über eine breite Palette von Funktionen, einschließlich direkte Bildgebung und Feature Capture, automatisierte Resistbeschichtung, automatisierte Vergleichsmikroskopie und Bordmesstechnik. Es ist auch in der Lage, bildgebende Eigenschaften über 6 "Wafer und größere Substrate und ist für eine Vielzahl von Resistformulierungen und Prozeßchemie entwickelt, so dass es ein leistungsfähiges und vielseitiges Werkzeug für eine Vielzahl von fortschrittlichen Lithographieexperimenten.