Gebraucht ZEISS B12 #9245011 zu verkaufen

ZEISS B12 Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Lösung für integrierte Photomasken und ist für die schnelle und kostengünstige Herstellung hochauflösender Muster für die Lithographie konzipiert. Kern des Systems ist der Invesresit Coater ZEISS B-12 im europäischen Stil, der Wafer bis zu einer Größe von 350mm handhaben kann. Der Coater nutzt die Regelung von Druck, Temperatur und Schichtgeschwindigkeit, um präzise und wiederholbare Musterergebnisse zu gewährleisten. Das integrierte Vakuumwerkzeug des Geräts wird verwendet, um eine belastungsarme Umgebung während des Musterübertragungsprozesses zu erreichen, was zu einer verbesserten Haftung und Mustertreue führt. B12 Photoresist Maschine enthält auch ein fortschrittliches Automatisierungswerkzeug, das den Durchsatz erhöht und ermöglicht mehrere Wafer gleichzeitig bearbeitet werden. Die Anlage ist mit einem Dual-Laser-Ausrichtungsmodell ausgestattet, das die Wafer genau auf dem Coater positioniert. Die robotergestützte Beladung und die automatisierte Kassettenretrieval-Ausrüstung verbessern die Produktionseffizienz weiter. Die Wafer werden dann mit dem integrierten automatisierten Substrataustausch gesponnen und auf den richtigen Photolack ausgerichtet. Das System verfügt über eine benutzerfreundliche Oberfläche, die den Prozess von der Voreinstellung bis zur Fertigstellung vereinfacht. Ein rezept-gesteuertes Grafikdisplay bietet Echtzeit-Informationen zum Prozess und ermöglicht es Benutzern, Parameter schnell anzupassen, um die Leistung zu verbessern. Das Gerät verfügt auch über integrierte Qualitätssicherungsprotokolle und unterstützt die Datenerfassung und das Prozessmanagement, um jedes Mal wiederholbare qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten. B-12 Photoresist Maschine ist entworfen, um die Anforderungen der lithographischen Produktion zu erfüllen und ist ideal für den Einsatz in Halbleiter, Photovoltaik, optoelektronische und andere Disziplinen, die die höchste Leistung erfordern. Das Werkzeug bietet die Vorteile Geschwindigkeit, Konsistenz, Zuverlässigkeit und Kosteneffizienz, die alle für die präzise Herstellung von Photomasken benötigt werden.