Gebraucht ZEISS B12 #9245013 zu verkaufen

ZEISS B12 ist eine hochmoderne Photolackausrüstung, die für Anwendungen in der Nanofabrikation entwickelt wurde. Es ist in der Lage, schnelle, genaue und zuverlässige Widerstandsschichtabscheidung und Strukturierung. Das System nutzt eine Kombination aus Elektronenstrahl und Lasertechnologie, um eine lithographische Auflösung von Sub-50 Nanometern und höchste erreichbare maskenlose Fertigungsroutinen zu erreichen. ZEISS B-12 besteht aus einer Elektronenstrahlsäule, einer Hochvakuumspur, einer automatisierten Resistkonformation und einer integrierten Rezeptur. Der Elektronenstrahl als bildgebende Quelle dient zur Belichtung der Resistschicht und die Hochvakuumspur zur Bewegung des Substrats. Das integrierte Rezept sorgt dafür, dass die gewünschten Energie-, Dosis- und Strahlparameter vorprogrammiert werden können, um wiederholbare Ergebnisse zu gewährleisten. Zusätzlich verwendet die Maschine einen leistungsstarken Rückkopplungskorrekturalgorithmus, der den Fokus und die Drift während des Belichtungsprozesses korrigiert, um die höchste Auflösung für die Strukturierung zu gewährleisten. B12 Resistschichten können für verschiedene Anwendungen wie Nanocontainer, Nanostrukturen, Nanopartikel und Nanomaterialien verwendet werden. Darüber hinaus kann das Werkzeug in verschiedenen Modi für verschiedene Anwendungen wie Batch, Multi-Level, Multi-Point und Hochdurchsatz betrieben werden. Die Substratstufe von B-12 ist auch in der Lage, beliebige Substrate wie Scheiben, Glasschieber und vakuumverträgliche geätzte Substrate zu handhaben. Darüber hinaus hat ZEISS B12 eine hohe Empfindlichkeit und kann über einen breiten Dosisbereich betrieben werden, wodurch es in der Lage ist, sehr kleine Merkmale zu drucken. Dies macht ZEISS B-12 ideal für Anwendungen wie Quantenpunkte, hochdichte MEMs, Sensoren und biomedizinische Nanosysteme. Zusätzlich hat sich die von B12 gebildete Resistschicht als sehr stabil erwiesen und eignet sich somit für Langzeitlagerung und Wiederverwendung. Abschließend ist B-12 eine leistungsfähige und zuverlässige Photolackanlage, die für Anwendungen mit hoher Genauigkeit in der Nanofabrikation entwickelt wurde. Es verwendet eine Kombination aus Ionenstrahl und Lasertechnologie, um hochauflösende Muster zu erzeugen und bietet mehrere Substrate und Belichtungsmodi. Das integrierte Rezeptmodell sorgt für wiederholbare Ergebnisse und ein leistungsstarker Feedback-Steueralgorithmus korrigiert Fokus und Drift während des Belichtungsprozesses. Darüber hinaus hat sich die von ZEISS B12 gebildete Resistschicht als sehr stabil erwiesen und ist somit ideal für die Langzeitlagerung und Wiederverwendung geeignet.