Gebraucht KLA / TENCOR 1007 #9150404 zu verkaufen

Hersteller
KLA / TENCOR
Modell
1007
ID: 9150404
Wafer prober, 6" Equipment specifications: Voltage: 115 Volts Frequency: 60 Hertz Current: 30 Amps Equipped with Olympus SZ40 Stereo zoom microscope (2) GSWH20x/12.5 Oculars Currently warehoused 1994 vintage.
KLA/TENCOR 1007 ist ein Halbleiter-Wafer-Inspektions- und Messtechnik-Tool, das für die genaue Analyse von gemusterten Silizium-Wafern entwickelt wurde, die nach dem photolithographischen Lithographieverfahren bei der Herstellung von integrierten Schaltungen hergestellt werden. KLA 1007 Prober verwendet erweiterte Optik, Bildverarbeitungsalgorithmen und eine Vielzahl von Messtechnik-Software, um detaillierte Parameter der Muster auf den Wafern zu messen. Das Gerät TENCOR 1007 Prober besteht aus einer robotisch positionierten Waferstufe, einer Optik zur Bilderfassung und -beleuchtung, spezialisierten Beleuchtungsquellen und bildgebenden Modi, einer Vielzahl von Softwarealgorithmen zur Waferinspektion und Messtechnik (IM) sowie leistungsfähiger Hardware und Software. Das System wurde entwickelt, um extrem präzise Messungen in verschiedenen messtechnischen Anwendungen wie Prozessüberwachung, Ertragsanalyse und Fehleranalyse bereitzustellen. Der Prober umfasst eine erweiterte Bildanalyse-Einheit zur Erkennung von lithographischen Fehlern wie Überschneidungen, Hinterschneidungen, Überbrückungen und anderen Strukturfehlern. Es bietet auch dreidimensionale Analyse von Oberflächenmerkmalen mit Weißlicht-Interferometrie. Der Prober kann so geändert werden, dass er eine ADA-Option (Automated Defect Analysis) enthält, mit der geometrische und strukturelle Fehler aus einem einzigen Bild erkannt, klassifiziert und gemessen werden können. Die Maschine enthält auch einen proprietären High Contrast Inspection (HCI) -Modus, der die Erkennung von subtilen und oft schwer zu erkennenden Anomalien verbessert. Der Prober enthält auch einen umfassenden Satz von Metrologie-Algorithmen zur Erkennung, Größe und Analyse einer Vielzahl von Muster- und Formfehlern. Es kann globale Messungen wie Linienbreiten, kritische Bemaßung (CD) und kritische Bemaßungsgleichförmigkeit (CDU) sowie erweiterte Messungen wie Linienkantenrauhigkeit (LER), Stapelmessungen und sekundäre KE-Analysen durchführen. Zur weiteren Prozesssteuerung verfügt der Prober über Funktionen wie rezeptbasierte Substrate-Mapping, um den gesamten Wafer schnell und genau abzubilden. 1007 Prober ist kompatibel mit verschiedenen Photomasken, Resists und Ätzchemien und kann mit einer SEM-Plattform zur plattformübergreifenden Verifizierung und Korrelation von Daten integriert werden. Der umfassende Messdatenbericht von Prober bietet eine vollständige Rückverfolgbarkeit, um eine verbesserte Prozesskontrolle, eine schnelle Ertragsverbesserung und eine genaue Funktionsvolumenanalyse zu ermöglichen. Insgesamt setzt KLA/TENCOR 1007 Prober einen Standard in der Wafermesstechnik und Optimierung für Halbleiterfertigungsprozesse.
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