Gebraucht SEMICS Opus II #293626462 zu verkaufen

SEMICS Opus II ist ein Profiler der nächsten Generation für die Überwachung und Steuerung von Halbleiterscheiben-Prozessen. Das System wurde entwickelt, um eine automatisierte Wafer-Prozesssteuerung in Echtzeit zu ermöglichen und gleichzeitig eine benutzerfreundliche Schnittstelle bereitzustellen, die eine schnelle und effiziente Prozessüberwachung ermöglicht. Opus II verwendet 32-Bit-CPU, Echtzeit-Betriebssystemkernel und FPGA-Engines, um mehrere Datenerfassungsaufgaben in einem einzigen Gerät zu bearbeiten. Dies ermöglicht die gleichzeitige Erfassung und Verarbeitung von Mehrbit-Datenströmen von verschiedenen Messpunkten, wie Basisdrücken, Leckagen, Drücken entlang Thermoelementschenkeln, Temperaturen und Durchflussraten. SEMICS Opus II verfügt zudem über eine erweiterte Datenerfassungsfunktion, mit der sowohl Rohdaten als auch abgeleitete „Profile“ des Prozesses für die zukünftige Überprüfung gespeichert werden können. Darüber hinaus bietet der Profiler anspruchsvolle grafische Displays zur gleichzeitigen Überprüfung von bis zu zwei getrennten Profilen. Die Displays verfügen außerdem über eine einstellbare Skalierung, die eine bessere Prozesssichtbarkeit und einfachere Fehlerbehebung ermöglicht. Opus II bietet auch eine Vielzahl von Datenübertragungsoptionen, einschließlich serieller Standard- und USB-Verbindungen, sowie eine Reihe von proprietären oder optionalen Ethernet-basierten Verbindungen. Dies eröffnet weitere Möglichkeiten der Zusammenarbeit, indem der Profiler direkt mit anderen fortschrittlichen Maschinenkomponenten sowie mit externen Systemen kommunizieren kann. SEMICS Opus II unterstützt eine Vielzahl von Prozesssteuerelementen, wie z.B. Regelung, Ein/Aus-Steuerung, PID-Steuerung und eine Vielzahl von benutzerdefinierten Algorithmen. Dies ermöglicht eine größere Flexibilität bei der Feinabstimmung eines Prozesses und kann den Bedarf an manueller Abstimmung und Anpassung reduzieren. In Bezug auf Software nutzt Opus II eine integrierte Suite von Tools zur Konfigurationsüberwachung, Diagnose und Wartung. Diese Software-Suite verfügt über eine Online-Skriptfunktion, mit der Benutzer das System problemlos konfigurieren und bei Bedarf benutzerdefinierte integrierte Regeln hinzufügen können. Darüber hinaus bietet der Profiler eine automatisierte Prozesszyklusoptimierung, die einen schlankeren und konsistenteren Prozessablauf ermöglicht. Insgesamt ist SEMICS Opus II ein leistungsstarker und sehr vielseitiger Profiler, der Anwendern eine leistungsstarke Mischung aus Datenerfassung, Prozessüberwachung und Prozesskontrolle bietet. Damit eignet sich Opus II ideal für eine breite Palette von Halbleiterprozessanwendungen, vom Basiswafer-Profiling bis hin zum fortschrittlicheren Prozessmanagement.