Gebraucht SEMICS Opus II #293644080 zu verkaufen

SEMICS Opus II ist ein Prober, der speziell für die anspruchsvollen Anforderungen der fortschrittlichen Waferinspektion entwickelt wurde. Der Prober integriert hochpräzise Bewegungs- und Flüssigkeitskontrolle, erweiterte Bildgebungs- und Automatisierungsfunktionen. Es ist in der Lage, eine breite Palette von Wafergrößen zu handhaben, von so klein wie 1mm bis zu so großen 12 Zoll im Durchmesser. Es verfügt auch über ein integriertes Vision-System, das Fehler bis zu 0,05 Mikrometer erkennen kann, was es zu einem zuverlässigen und genauen Werkzeug für die Inspektion der kompliziertesten Nanostrukturen macht. Der Prober arbeitet mit einem eigenständigen Betriebssystem und einer benutzerfreundlichen grafischen Oberfläche, die eine einfache und effiziente Waferinspektion ermöglicht. Es ist mit einer verstellbaren Stufe ausgestattet, die das Verschieben und Positionieren von Proben ermöglicht, die eine zuverlässige Ausrichtung und Positionierung von Wafern für eine genaue Inspektion ermöglicht. Es ist auch mit speziellen Ausrichtungs- und Lenksystemen ausgestattet, die eine schnelle und genaue Navigation zum Messort jeder Probe ermöglichen. Der Prober verfügt über ein leistungsstarkes Bildgebungssystem, das eine außergewöhnlich scharfe Auflösung mit einer Reihe von Kontrasten und Empfindlichkeiten nutzt und eine genaue Überprüfung der Mikrometer-Funktionen ermöglicht. Seine Vollspektrumbeleuchtung und fortschrittliche Optik bieten ein dreidimensionales Bild des inspizierten Wafers und bieten einen beispiellosen Einblick in Waferdefekte. Der Prober verfügt zudem über einen integrierten FOUP (Front-Opening Unified Pod), der eine sichere und zuverlässige Probenhandhabung ermöglicht. Es ist auch mit einer CCD-Kamera, einem LCD-Touchscreen und einem integrierten thermischen Controller ausgestattet, der eine zuverlässige Datenerfassung und reproduzierbare Ergebnisse liefert. Der Prober umfasst auch mehrere Softwareprogramme zur Verwaltung und Automatisierung der Probenverarbeitung und -analyse. Zu diesen Programmen gehört ein einfach zu bedienender Programmeditor, der eine schnelle Erstellung benutzerdefinierter Datenerfassungsprotokolle sowie eine automatisierte statistische Datenanalyse ermöglicht. Opus II ist das perfekte Werkzeug für anspruchsvolle Wafer-Inspektion und bietet die zuverlässigste und genaueste Wafer-Inspektionsfähigkeit für fortschrittliche Nanotechnologien. Es bietet eine vollautomatische Lösung mit hohem Durchsatz für eine zuverlässige Waferinspektion und eignet sich ideal für Wafer-Verifikation, Fehleranalyse, Prozessbewertung und Produktentwicklung.