Gebraucht SEMICS Opus II #9119446 zu verkaufen

Hersteller
SEMICS
Modell
Opus II
ID: 9119446
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2008
Prober, 12" Chuck top: Nickel (Hot / Cold) Cold option Temperature: -55°C - 150°C Air: Tube Vacuum: Tube Head plate Monitor: Standard Needle cleaning unit: Square type Manipulator Chiller: GST TCSG-PR100S APC Card holder Docking with T5377S Power: 200-240 V 2008 vintage.
SEMICS Opus II ist ein fortschrittlicher Technologie-Prober, der für die kontaktlose, berührungslose, IC-Komponente und Halbleiter-Wafer-Fehleranalyse verwendet wird. Entwickelt für hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit, erkennt und unterscheidet Opus II präzise und schnell kleinere Defekte auf Waferoberflächen und in Drähten und Kontaktpads. SEMICS Opus II arbeitet in temperaturgesteuerten Umgebungen und verfügt über eine fortschrittliche Optik und Quellenausrichtung mit einem patentierten Waferorientierungssystem. Die optischen Systeme des Probers umfassen ein Zoom-Objektiv mit variablem Fokus und eine piezoelektrische XYZ-Bühne, mit der der Techniker die Zoomlinse und die Sondenposition auf dem Wafer manuell einstellen kann. Neben seiner hochauflösenden Optik ist Opus II mit fortschrittlichen Kontakt- und berührungslosen Sensoren ausgestattet, die in der Lage sind, bei extrem hohen Geschwindigkeiten unsichtbare Fehler in Strukturen zu erkennen. Die Sensoren sind in der Lage, auch kleine strukturelle Defekte, wie Schwankungen der Schaltungsdichte, aufzunehmen. Der Prober verfügt zudem über eine hochauflösende CCD-Kamera und eine hochempfindliche IR-Kamera. Die CCD-Kamera erfasst Bilder mit einer Größe von bis zu 8 Millionen Pixeln, während die IR-Kamera die minutengenauen Temperaturänderungen von leicht defekten Bereichen aufnimmt. Zur Fehlerbehebung und Fehlersuche umfasst SEMICS Opus II eine unschätzbare Testsuite, die eine wertvolle statistische Analyse, Fehlererkennung und computersimulierte Fehleranalyse bietet. Die hochmodernen Datenerfassungs- und Analysefunktionen des probers stehen mit Echtzeit-Updates zur Verfügung. Opus II wurde entwickelt, um produktbezogene Mängel schnell zu identifizieren, die Produktionskosten zu senken, Produktionsausfallzeiten zu reduzieren und die Produktqualität zu erhöhen.
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