Gebraucht SEMICS Opus II #9284014 zu verkaufen

Hersteller
SEMICS
Modell
Opus II
ID: 9284014
Weinlese: 2005
Prober Platform: 93K OCR type: SEMICS OCR Chuck model: Opus chuck / 100kg / 27°C - 130°C Tray module: Tray Clean unit dimension: 8" x 4" Docking type: HP93K pogo 9.5" Docking kit: HP93K pogo combo 12" / 9.5" APC Function PMI function: MPMI Card holder: HP93K 9.5" (SUS) APC 2005 vintage.
SEMICS Opus II ist ein hochwertiges, flexibles und hochpräzises Messtechnikwerkzeug. Es ist für fortgeschrittene Sondierungs- und Messoperationen in der Halbleiterindustrie konzipiert. Das Tool besteht aus zwei Hauptkomponenten: einem vollautomatischen, multisensorischen eigentlichen Scanner und einer benutzerfreundlichen Softwareausstattung. Das Softwaremodul ist eine eingebettete, Windows-basierte Plattform, die mit dem eigentlichen Scanner verbunden ist und Echtzeit-Datenerfassung und Steuerungsunterstützung durchführt. Die Anwendungssuite ist mit einer Vielzahl von Konfigurationsoptionen ausgestattet, wie mehrspuriger Betrieb mit Echtzeit-Gerätereprobing, zurückgestellter Sondierung und logischer Verifizierung. Seine benutzerfreundliche Oberfläche ermöglicht eine schnelle und einfache Einrichtung und effiziente Datenverwaltung. Der eigentliche Scanner ist ein halbautomatisches, halbbewegliches System, das mit einer 3-achsigen Positionierplattform mit 5-achsiger Antriebseinheit aufgebaut ist. Die Plattform ermöglicht ein automatisches Scannen einer vordefinierten Oberfläche, während sie auch eine manuelle Einstellung und Kalibrierung für bestimmte Teile oder Orte an den zu prüfenden Objekten ermöglicht. Die hochauflösenden CCD-Kameras und die Röntgenquellen-Bildgebung helfen dabei, alle von jeder Position erfassten Datensätze zu navigieren und zu analysieren. Die Maschine kann nicht nur die Größe und Ebenheit der Oberflächen von Halbleiterscheiben messen, sondern auch Metrologie- und Overlay-Werte aus jeder der verschiedenen Schichten erfassen. Die verschiedenen Messfunktionen von Opus II werden durch verschiedene High-End-Messgrößen und -Werkzeuge unterstützt, wie z. B. Auto-Lane-Messungen, Noise Analyzer, Partial Overlay Monitoring und Probe Based Defect Measurement. All diese messtechnischen Werkzeuge helfen dem Werkzeug, seine Ergebnisse genau und präzise zu messen und zu analysieren. SEMICS Opus II ist eines der fortschrittlichsten, vielseitigsten und genauesten Messtechnik-Systeme für die Halbleiterindustrie. Es ist ein wichtiges Werkzeug für die Prüfung und Entwicklung von Halbleiterprodukten der nächsten Generation und für die Erstellung sicherer integrierter Schaltungsdesigns. Mit seiner High-End-Technologie und umfassenden messtechnischen Eigenschaften ermöglicht Opus II eine erhebliche Senkung der Herstellungskosten und eine Verbesserung der Produktionsgeschwindigkeit.
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