Gebraucht SEMICS Opus II #9383805 zu verkaufen

SEMICS Opus II ist eine automatisierte Wafer-Prober- und Metrologie-Ausrüstung, die eine Vielzahl von Fähigkeiten für die Prüfung und Charakterisierung von Halbleitern bietet. Mit den neuesten Fortschritten in der Robotik und Automatisierung bietet dieses System eine vollautomatische Lösung für große Serientests. Opus II-Einheit bietet eine umfassende Suite von Test- und Charakterisierungsfunktionen für eine Vielzahl von Halbleiterbauelementen, einschließlich Flash, DRAM, ASICs, MCUs und EPROMs. Die Maschine besteht aus drei Hauptkomponenten: einer Robotereinheit, einer automatisierten Handhabungseinheit und einer Messstation. Die Robotereinheit bewegt die Wafer von und zur Analysestation. Sie übernimmt auch die Waferübertragung vom Vakuumspannwerkzeug, die zufällige Positionierung des Wafers zur Ausrichtung und die Bewegung des Wafers von und zur Metrologiestation. Die automatisierte Handhabungseinheit ist für den kontinuierlichen Waferfluss im gesamten Asset verantwortlich und mit einem Fehlererkennungsmodell ausgestattet. Diese Funktion ist für automatisierte Systeme wesentlich, um Wafer-bezogene Fehler zu identifizieren, die während des Produktionsprozesses auftreten können. Schließlich besteht die Metrologiestation aus zwei Werkzeugen: einem Laser-Streumessgerät, mit dem Oberflächentopologiedaten erfasst werden, und einem Rasterelektronenmikroskop, mit dem die strukturierte Oberfläche der Wafer abgebildet wird. SEMICS Opus II wurde entwickelt, um in eine Vielzahl bestehender Produktionslinien mit einer Vielzahl von Integrationsoptionen und einer Vielzahl von erweiterten Steuerungsfunktionen zu passen. Dazu gehört der Einsatz fortschrittlicher computergesteuerter Wafer-Handhabungstechniken, die einen reibungslosen Betrieb und eine geringe Partikelerzeugung ermöglichen. Diese computergesteuerten Methoden können angepasst werden, um eine Vielzahl von Kriterien an die spezifischen Bedürfnisse des Benutzers anzupassen. Die Metrologie-Station verfügt über eine maßgeschneiderte halbleiterspezifische Softwareplattform, die eine Reihe von Mess- und Analysefunktionen bietet. Für große Produktionsläufe ermöglicht die hohe Genauigkeit und Wiederholgenauigkeit dieser Geräte erhebliche Kosteneinsparungen durch verbesserte Wiederholbarkeit und Durchsatz der Tests. Darüber hinaus kann Opus II im Laufe der Zeit subtile Veränderungen in den Wafern erkennen, wodurch sichergestellt wird, dass die Erträge hoch bleiben und die Wafer zurückgewiesen werden, die nicht den Qualitätsstandards entsprechen. Das System erfüllt auch alle semikonspezifischen Sicherheitsstandards und bietet seinen Anwendern eine zuverlässige und sichere Arbeitsumgebung. Insgesamt ist SEMICS Opus II eine All-in-One-Wafer-Prüf- und Messtechnik-Einheit, die den Produktionsprozess durch eine kostengünstige und effiziente Lösung für die Prüfung und Charakterisierung von Halbleiterbauelementen optimiert.