Gebraucht SEMICS Opus3 #9220173 zu verkaufen

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Hersteller
SEMICS
Modell
Opus3
ID: 9220173
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2017
Prober, 12" Linear stage system Cassette map with sensor Motorized 3 leg VNC Support 5 Fixed tray Specification: Thickness: 300 µm - 2000 µm Die size: 350 µm - 100,000 µm Prober card handling: Shape: 350Φ/480Φ/520Φ Thickness: Maximum 50 mm Prober unit: Position accuracy: X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm Contact accuracy: X/Y: ± 1.0 µm, Z: ± 1 µm X/Y Probing area: X: ± 175 mm Y: ± 185 mm Maximum speed: 500 mm/s Z Axis: Z Stroke: 40 mm Contact setting range: 1-10 mm Drive method: AC Servo motor Accuracy: ± 1 µm Maximum speed: 50 mm/s Rigidity for needle force: 300 kg Θ Axis: Rotation stroke: ± 5.0° Drive method: Stepping motor Control resolution: 0.0001° Chuck top: Planarity: ≤ 10 µm at Ambient Temperature range: Ambient ~ 150°C Alignment method: Image pattern matching Optic auto-focus Loader rotation axis: Maximum rotation speed: 270°C /sec Drive method: Stepping motor Control resolution: 0.006° Pre-aligmnent unit: Maximum rotation speed: 360°/sec Accuracy: X,Y ± 100 µm Control resolution: 0.036° (R=150 mm, 95 µm) Computer: CPU: I5 Dual core 2400 3.0 GHz HDD: 500 GB Memory: 3 GB System disk: USB Monitor: Touch screen, 15" OS: Window XP 2017 vintage.
SEMICS Opus3 ist ein multiparametrisches Prozessoptimierungstool, das branchenübergreifend zur Prozessüberwachung und -steuerung eingesetzt wird. Es ist ein Mehrzweckwerkzeug, geeignet für große und kleine Operationen. SEMICS OPUS 3 ist in der Lage, sowohl statistische als auch prädiktive Analysen durchzuführen, um Einblicke in Fertigungsprozesse zu erhalten und potenzielle Verbesserungsbereiche zu identifizieren. Es funktioniert, indem es rohe Prozessdaten und Post-Process-Informationen überwacht und sammelt, die zur Analyse von Trends, zur Aufdeckung von Ursachen für Variation und zur Verbesserung von Prozessparametern verwendet werden. Opus3 verwendet fortschrittliche Prozessüberwachungsalgorithmen, um Ursachenanalysen durchzuführen und Prozessparameter zu identifizieren, die zu Verbesserungen der Produktqualität oder Prozesskonsistenz führen könnten. Die Software ermöglicht es Anwendern, eingehende Prozessänderungen vorzunehmen und ihre Auswirkungen auf die Prozessausbeute, Produktqualität und Prozesskonsistenz zu überwachen. Darüber hinaus bietet OPUS 3 präventive Wartungs- und Produktionsplanungsfunktionen, die bei der Optimierung von Produktionszykluszeiten und der Reduzierung von Ausfallzeiten helfen können. Darüber hinaus bietet die Software statistische Tools wie Basisdiagramme der Statistischen Prozesssteuerung (SPC), parametrische Analysen, Fähigkeitsstudien und Vorhersagemodelle, die bei der Prozessoptimierung helfen. SEMICS Opus3 bietet zudem leistungsstarke Echtzeit-Datenvisualisierungs- und Reporting-Tools, mit denen Anwender Prozessleistung und Verbesserungspotenziale schnell einsehen können. Diese Tools ermöglichen es Benutzern, komplexe Trends zu identifizieren, zu überprüfen und zu analysieren, Auffälligkeiten in der Prozessleistung zu erkennen und Berichte zu erstellen, in denen Änderungen an der Prozessoptimierungshistorie detailliert beschrieben werden. Die Software umfasst auch eingebaute Hardware- und Software-Schnittstellen zur I/O-Signalkonditionierung, Signalkonvertierung und Steuerungsfunktionen für ein effektives Prozessmanagement. So können Anwender komplexe Geräteoperationen über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI) steuern und überwachen. Darüber hinaus unterstützt die Software verschiedene Kommunikationsprotokolle, um eine sichere Datenerfassung und maschinenübergreifende Zusammenarbeit zu ermöglichen. Insgesamt ist SEMICS OPUS 3 ein leistungsstarkes und vielseitiges Werkzeug zur Prozessoptimierung mit einer Reihe fortschrittlicher Funktionen. Es bietet leistungsstarke Echtzeit-Analysetools zur Identifizierung und Verbesserung von Prozessparametern sowie leistungsstarke Überwachungs- und Steuerungsfunktionen, um Ausfallzeiten zu minimieren und Produktionszykluszeiten zu optimieren. Darüber hinaus macht das breite Spektrum an Schnittstellen- und Kommunikationsprotokollen die Software für verschiedenste Branchen geeignet.
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