Gebraucht AET RX-V4 #78797 zu verkaufen

ID: 78797
Wafergröße: 4"
Quartz Rapid Thermal Process unit, 4" Up to 8 gases Dry pump included.
AET RX-V4 ist eine fortschrittliche schnelle thermische Verarbeitungsausrüstung, die eine effiziente Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. RX-V4 ist ein vielseitiges und zuverlässiges Werkzeug, das schnelle Hochtemperaturanalysen, Waferglühen, Abscheiden und hochpräzise Stempelbindungsprozesse ermöglicht. Das System verfügt über einen integrierten vertikalen Aufzug, mehrere Liftkonfigurationen und eine integrierte Wafer-Abbildung. AET RX-V4 beinhaltet einen vorprogrammierten horizontalen Arm (Harmonizer) und eine erweiterte Softwarediagnose. Dies ermöglicht die schnelle Erkennung und Abbildung einzelner Prozessparameter und ein adaptives Design, das eine einfache und nahtlose Integration der Einheit in eine Fertigungsumgebung ermöglicht. Der Harmonizer ist in der Lage, zahlreiche thermische Prozesse durchzuführen, einschließlich Dickschichthärtung und Brennen, Metalldünnschichthärtung und thermische Verarbeitung bei niedrigen Temperaturen. Die integrierten fortschrittlichen Automobiltechnologien sorgen für maximale Stabilität und Verfügbarkeit und sind somit eine ideale Lösung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Die erweiterte Wafer-Mapping-Funktion von RX-V4 bietet die Möglichkeit, einzelne Prozessschritte zu visualisieren und zu identifizieren, sodass Benutzer verschiedene Prozessparameter schnell diagnostizieren und ändern können. Die Waferkarte enthält mehrere hochauflösende Bilder, mit denen einzelne Prozessparameter im Laufe der Zeit überwacht werden können. Es kann verwendet werden, um das Temperaturprofil während eines thermischen Prozesses zu überwachen, sowie visuelle Inspektionsdaten zu korrelieren. Darüber hinaus können AET- RX-V4 Fehler und andere Inkonsistenzen innerhalb einer Probe schnell erkennen. RX-V4 ist mit einer hocheffizienten Vakuummaschine und einem fortschrittlichen Wafer-Analysetool ausgestattet, wodurch Benutzer eine breite Palette von Tests und Experimenten durchführen können. Das Vacuum Asset nutzt eine Vielzahl von Sensortechnologien, um Druck und Temperatur in Echtzeit zu überwachen. Dies gewährleistet eine schnelle und genaue Optimierung und Steuerung der Prozessparameter. Darüber hinaus ermöglicht das Waferanalysemodell quantitative Analysen von Wafermerkmalen wie Dicke, Zusammensetzung und Schadstoffgehalt. AET RX-V4 ist mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche ausgestattet, die eine einfache Navigation und intuitive Bedienung ermöglicht. Dies erleichtert die Beurteilung der Ergebnisse verschiedener thermischer Prozesse. Das Gerät umfasst auch erweiterte Selbstdiagnose- und Wartungsfunktionen, die eine optimale Bedienung und Zuverlässigkeit gewährleisten. Insgesamt ist RX-V4 ein effizientes und zuverlässiges thermisches Verarbeitungssystem. Es ist das ideale Werkzeug für die effiziente Herstellung von Halbleiterbauelementen und bietet eine intuitive und umfassende Plattform für schnelle, genaue und genaue thermische Analysen, Wafer-Glüh-, Abscheide- und Stanzverfahren.
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