Gebraucht AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 #9146306 zu verkaufen
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ID: 9146306
Wafergröße: 5"-8"
Weinlese: 1994
Rapid thermal processor annealing system, 5"-8"
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
ULPA Filtration
Mechanical assemblies
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Wafer handling: Automatic serial processing
Standard cassettes
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate: Programmable
1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate: Programmable
1 – 180°C Per second
Ramp down rate is temperature
Radiation dependent
Maximum 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy:
+3°C to -7°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 3°C
Temperature uniformity: + 5°C
1994 vintage.
AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 ist ein schneller thermischer Prozessor, der leistungsstarke thermische Verarbeitungsfunktionen in einem sehr kompakten Paket liefert. Dieses RTP-System wird hauptsächlich in Forschungs- und Entwicklungslabors eingesetzt, um den Prozess des Glühens und der schnellen thermischen Verarbeitung (RTP) von Halbleiterscheiben zu beschleunigen. Heatpulse 4108 ist mit einer Substrat-Heizkammer ausgestattet, die es zu einer idealen Wahl für temperaturempfindliche Anwendungen wie das Glühen von Dünnschichtschichten macht. Die Kammer verfügt über horizontal versetzte Rohr-in-Rohr-Heizkörper bieten eine gleichmäßigere Temperaturverteilung über die Substratoberfläche und minimieren den thermischen Gradienten. Die Temperaturgleichmäßigkeit wird durch die Funktion Automatisches Temperaturprofil (ATP) Tuning weiter für eine bestimmte Anwendung optimiert. Dieses Merkmal passt die Heizleistung an, um die erwärmte Flächentemperatur zu optimieren, wenn sich das Substrat vom vollen mittleren Gehäusebereich zu den Ecken der Kammer bewegt. AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 ist mit Software ausgestattet, die eine vollautomatische Steuerung der wiederholbaren Prozessziele für bis zu 96 Prozesse ermöglicht. Es bietet auch Ethernet-basierten Remote-Zugriff für den komfortablen Betrieb von einer Workstation, wo Benutzer wichtige Parameter wie Temperatur/Leistung/Gas/Zeit-Profile überwachen und einen wiederholbaren Prozess von einem Wafer zum nächsten replizieren können. Heatpulse 4108 enthält auch mehrere Sicherheitsmerkmale. Es verfügt über ein Backup-Netzteil mit automatischer Wiederanbindung nach Stromunterbrechungen, um sicherzustellen, dass alle Daten vor Verlust oder Korruption geschützt sind. Der eingebaute Druckregler und die Isoliervorrichtung sorgen für ultimative Prozesssicherheit. Abschließend ist AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 ein leistungsfähiges und zuverlässiges RTP-System, das hervorragende und wiederholbare thermische Verarbeitungs- und Glühfähigkeiten bietet. Seine geringe Größe kombiniert mit seinen umfangreichen Sicherheits- und Steuerungsfunktionen machen es zu einer großen Wahl für kleine, temperaturempfindliche Anwendungen.
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