Gebraucht AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 #9146377 zu verkaufen
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ID: 9146377
Wafergröße: 5"-8"
Rapid thermal processor annealing system, 5"-8"
Includes:
Process chamber: Two high-intensity tungsten halogen lamp arrays
STD Bus for real-time operation
Quartz isolation tube
Robot / Robot controller
Gas control electronics
ULPA Filtration system
Graphic user interface (GUI) computer system
Electronics
Mass-flow-controlled gas handling
Cooling
Mechanical assemblies
Applications:
Silicon dielectric growth
Implant annealing
Glass re-flow
Silicide formation and annealing
Nitridation of metals
Contact alloying
Oxygen donor annihilation
Wafer handling: Automatic serial processing
Standard cassettes
Throughput: Process dependent
Ramp-up rate:
Programmable
Range: 1 – 180°C Per second
Steady-state duration: 1 – 600 Seconds per step
Ramp-down rate:
Programmable
Temperature
Radiation dependent
Range: 1 – 180°C Per second
Maximum: 150°C per second
Recommended steady-state temperature range: 400 – 1200°C
ERP Temperature accuracy: +5°C to -9°C
Calibrated against an instrumented thermocouple wafer (ITC)
Temperature repeatability: + 7°C
Temperature uniformity: + 10°C.
AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 ist ein Rapid Thermal Processor (RTP) mit unübertroffener Flexibilität. Das System verwendet eine Schicht-für-Schicht-Technik, die es für viele Anwendungen nützlich macht, einschließlich Rapid Prototyping, Rapid Thermal Processing (RTP), Rapid Thermal Annealing (RTA), Rapid ALD (Atomic Layer Deposition), Rapid CVD (Chemical Vapor Deposition) und Diamosition. Heatpulse 4108 ist mit präziser Gleichmäßigkeit konzipiert und enthält Konstruktions- und Softwarewerkzeuge für thermische Gleichmäßigkeit, die eine hochgenaue thermische Verarbeitung von bis zu 4 Schichten bei gleichzeitigem Betrieb ermöglichen. Das ausgeklügelte Prozesskammerdesign mit fortschrittlicher Kühlplatte sorgt für Gleichmäßigkeit bei gleichzeitig ausgezeichneter thermischer Stabilität. Das Heizelement kann so eingestellt werden, dass es einen Temperaturbereich zwischen FTE (Raumtemperatur) und 1100 ˚C ermöglicht. Das System ermöglicht auch die genaue Steuerung der Bearbeitungszeit von 0,1 Sekunden bis 999 Minuten (oder länger mit einer erweiterten Laufoption). AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 bietet zudem höchste Gleichmäßigkeit und hohen Durchsatz. Die patentierte Gleichmäßigkeitskorrektursoftware ermöglicht eine konstante Schichtdickeneinstellung bei mehreren Durchläufen, ohne dass die Ausrüstung angepasst werden muss. Die Prozesskammer ist außerdem mit einem HF-Spalthorn ausgestattet, um eine Hotspotbildung bei der Verarbeitung kleiner Proben zu verhindern. Darüber hinaus ermöglichen automatisierte pneumatische Wafergreifer einen sicheren und effizienten Systembetrieb. Heatpulse 4108 kann mit einer Vielzahl von zusätzlichen Komponenten ausgestattet werden, darunter ein Hinterschnitt, UV-Ozon-Reiniger, Schüttgaseinlass und mehr. Diese ermöglichen spezialisierte Prozesse wie CMP, nicht oxidierendes tiefes dielektrisches Glühen und vieles mehr. AG ASSOCIATES Heatpulse 4108 kann auch mit einer flüssigen Stickstoffkühlkammer und Effektkammer mit Stickstoffgasspülung für eine verbesserte Prozesswiederholbarkeit konfiguriert werden. Insgesamt ist Heatpulse 4108 ein fortschrittlicher, hoch anpassbarer schneller thermischer Prozessor, der für eine Vielzahl von industriellen, akademischen und Forschungsanwendungen geeignet ist. Das anspruchsvolle Design, die flexible Konfiguration und die hervorragende thermische Stabilität machen es zu einem der vielseitigsten RTPs auf dem Markt.
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