Gebraucht AG ASSOCIATES Heatpulse 8800 #293622197 zu verkaufen

ID: 293622197
Weinlese: 2008
Rapid Thermal Annealing (RTA) system 2008 vintage.
AG ASSOCIATES Heatpulse 8800 ist ein leistungsfähiger Rapid Thermal Processor (RTP) zur präzisen Kontrolle von Zeit, Temperatur und Atmosphäre in einer Reihe von Prozessen wie Waferbearbeitung, Glühen, Spike-Glühen und anderen thermischen Behandlungen. Der 8800 verfügt über eine fortschrittliche Steuerungsarchitektur und Software, die eine präzise Anpassung seiner Parameter ermöglicht, um präzise Temperaturen, Gasströme, Zeiten und Druckzyklen zu erreichen. Der 8800 verfügt über ein hochmodernes Design, das hohe Temperaturgleichmäßigkeit mit schnellen Heizfunktionen kombiniert und es ermöglicht, eine Reihe von Wafergrößen und -temperaturen mit außergewöhnlicher Genauigkeit zu handhaben. Der 8800 verfügt zudem über eine integrierte Reaktorkammer zur Steuerung der Atmosphäre während der Glühprozesse, die eine präzise Kontrolle über Zeit, Temperatur und Gase ermöglicht. Der 8800 verfügt über ein integriertes Wafer-Ladesystem, das eine einfache Beladung einzelner Wafer oder Chargen ermöglicht. Der 8800 verfügt auch über einen integrierten programmierbaren Computer, der eine einfache Programmierung der RTP-Parameter aus einer Vielzahl von Softwarepaketen ermöglicht. Der 8800 hat einen hohen Temperaturbereich von 1250 ° C (2282 ° F) und eine Temperaturgleichförmigkeit von ± 4 ° C (7 ° F) in einer einzigen Waferkammer. Für Glühprozesse hat der 8800 einen Druckbereich von 5-10 Torr und eine Schrittzykluszeit von 0,1-12 Sekunden. Es verfügt auch über ein eingebautes Gasfördersystem, das eine präzise Steuerung der Inertgasströme ermöglicht. Der 8800 ist so konzipiert, dass er robust und zuverlässig ist und in rauen Umgebungen wie in der Industrie eingesetzt werden kann. Es ist auch mit einem effizienten Kühlsystem konzipiert, so dass es schnell abkühlen und zyklieren kann. Insgesamt ist AG ASSOCIATES HEATPULSE 8800 ein leistungsfähiges und zuverlässiges RTP, das eine präzise Zeit- und Temperaturregelung in einer Reihe von Prozessen ermöglicht.
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