Gebraucht ALLWIN21 AW 903e #9201808 zu verkaufen
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ID: 9201808
Wafergröße: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6"
Wafer loading: 3-Axis robot
Stationary cassette plate
Plasma power: RF 13.56 MHz
Type: Parallel / Single wafer process
Stand alone
Gas lines: 1-3 Lines
Throughput: 30-60 WPH, Process dependent
Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability
Gas Lines: (4) Gas lines with MFCs
Etcher rate:
AW-901eR: 0-8000A / minute
AW-903eR: 0-4000A / minute
Process dependent
Uniformity: Up to ±3%, Process dependent
Particulate: <0.05 / cm2
Selectivity:
901eR: 2-20:1
AW-903eR: 2-20:1
Process dependent
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Options:
EOP Module with PCB
GEM/SECS II Function
Lamp tower alarm with buzzer
Throttle valve pressure control
Vacuum pump
Chiller for chuck and chamber
Through the wall
Main frame, standard
Pentium class PC with
Keyboard
Mouse
USB
SW Backup
Cables
Chuck:3"-6"
Wafer aligner / Cooling station
3-Axis integrated solid robot:
H-Zero (Standard)
H1-7 x 10.5 (TTW)
Fixed cassette station:
Chuck assembly
901eR Non-anodized
903eR Anodized with flat
903eR Anodized with flat
903eR Non-anodized with flat
Reactor Assembly:
901eR Non-anodized
903eR Anodized
903eR Non-anodized
903eR High performance
Direct cooling
Non direct cooling
Pins:
Quartz
Ceramic SST
Centering ring:
Aluminum
Ceramic
Main control board:
Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves
RF Matching network with PCB
RF Generator: 13.56 MHz
MKS Elite: 300 HD
MKS Elite: 600 HD
MKS Elite: 1000 HD
ENI ACG 3
ENI ACG 10
AC / DC Box
ATM Sensor
UPC Pressure control
225 SCCM: 901eR
2000 SCCM: 903eR
MKS Baratron with peumatic Iiolation valve
Main vacuum valves
Front EMO interlocks
Touch screen GU, 15"
AW-901eR AW-903eR
Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride
Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He
Other gases CHCLF2 / None None
Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000
RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600
Temperature (C) 30 / 30 23
AC Power:
AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase
Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase
RF Generator: 200-240 VAC
PC / Monitor: 115 VAC
Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e Rapid Thermal Processor (RTP) ist ein hochentwickeltes Test- und Verpackungsgerät für Halbleiterbauelemente. Es ist in der Lage, extrem hohe Geschwindigkeiten und bietet überlegene Effizienz im Vergleich zu anderen thermischen Verarbeitungssystemen. AW 903e ist ein mehrstufiges thermisches Verarbeitungssystem, das einen Ofen mit einer fortschrittlichen Temperaturkontrolleinheit, ein LED-DTM-Modul und einen Drucksensor zur genauen Unterscheidung von Oberflächenoxiden umfasst. Der RTP-Ofen ist so konzipiert, dass eine gleichmäßige Temperatur innerhalb der Verarbeitungskammer erzeugt wird, um genaue Ergebnisse zu gewährleisten. Es kann so programmiert werden, dass hohe Temperaturen schnell erreicht werden können und die Zykluszeiten um bis zu 90% verkürzen. Die fortschrittliche Temperaturregelmaschine ermöglicht die Einstellung der exakten Temperatur des Ofens über ein Touch-Panel-Feature. Diese fortschrittliche Temperaturregelung sorgt für konsistente Leistung. Das LED-Düsen-Temperaturmanagementmodul sorgt dafür, dass jede Düse innerhalb des Wafers auf die gewünschte Temperatur erwärmt wird. Dadurch wird die Gleichmäßigkeit der erzielten Ergebnisse gewährleistet. Es verbessert auch den Durchsatz, indem die Wartezeit zwischen Wafern reduziert wird. Der Drucksensor dient zur Detektion von Oberflächenoxiden, die die Genauigkeit der Ergebnisse beeinflussen können. Durch den Nachweis dieser Oberflächenoxide kann ALLWIN21 AW 903e deren Bildung eliminieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die Genauigkeit der Ergebnisse nicht beeinträchtigt wird. AW 903e wurde auch mit Blick auf Flexibilität entworfen. Es kann zusätzliche Module wie Wafer Heating Tool und Wafer Mapping Asset für zusätzliche Genauigkeit enthalten. Es ist vollautomatisiert und wurde mit Blick auf Sicherheit und Wartung entworfen, was es zu einem sehr effizienten Gerät macht. ALLWIN21 AW 903e ist ein hochentwickeltes RTP und wurde entwickelt, um die höchste Genauigkeit und den Durchsatz bei der Verarbeitung von Wafern zu gewährleisten. Seine gleichmäßige Temperatur und fortschrittliche DTM sorgt für eine gleichmäßige Leistung und seine Fähigkeit, andere Module für zusätzliche Genauigkeit und Effizienz zu integrieren, machen es ideal für viele Anwendungen. Sie ist effizient, wartungs- und betriebssicher und lässt sich problemlos in bestehende Systeme integrieren.
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