Gebraucht ALLWIN21 AW 903e #9201808 zu verkaufen

ALLWIN21 AW 903e
ID: 9201808
Wafergröße: 3"-6"
Plasma etcher, 3"-6" Wafer loading: 3-Axis robot Stationary cassette plate Plasma power: RF 13.56 MHz Type: Parallel / Single wafer process Stand alone Gas lines: 1-3 Lines Throughput: 30-60 WPH, Process dependent Temperature: 6-65ºC (±2 ºC) Capability Gas Lines: (4) Gas lines with MFCs Etcher rate: AW-901eR: 0-8000A / minute AW-903eR: 0-4000A / minute Process dependent Uniformity: Up to ±3%, Process dependent Particulate: <0.05 / cm2 Selectivity: 901eR: 2-20:1 AW-903eR: 2-20:1 Process dependent MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Options: EOP Module with PCB GEM/SECS II Function Lamp tower alarm with buzzer Throttle valve pressure control Vacuum pump Chiller for chuck and chamber Through the wall Main frame, standard Pentium class PC with Keyboard Mouse USB SW Backup Cables Chuck:3"-6" Wafer aligner / Cooling station 3-Axis integrated solid robot: H-Zero (Standard) H1-7 x 10.5 (TTW) Fixed cassette station: Chuck assembly 901eR Non-anodized 903eR Anodized with flat 903eR Anodized with flat 903eR Non-anodized with flat Reactor Assembly: 901eR Non-anodized 903eR Anodized 903eR Non-anodized 903eR High performance Direct cooling Non direct cooling Pins: Quartz Ceramic SST Centering ring: Aluminum Ceramic Main control board: Gas box with (4) inline gas lines, MFC, filters, and pneumatic valves RF Matching network with PCB RF Generator: 13.56 MHz MKS Elite: 300 HD MKS Elite: 600 HD MKS Elite: 1000 HD ENI ACG 3 ENI ACG 10 AC / DC Box ATM Sensor UPC Pressure control 225 SCCM: 901eR 2000 SCCM: 903eR MKS Baratron with peumatic Iiolation valve Main vacuum valves Front EMO interlocks Touch screen GU, 15" AW-901eR AW-903eR Material Etched Polysilicon / Nitride Oxide,SOG,Nitride Main etchant gases SG6, O2 / SF6,O2 CHF3,SF6,He Other gases CHCLF2 / None None Pressure (mTorr) 200-450 / 250-350 1600-3000 RF Power (Watts) 100-250 / 200-300 400-600 Temperature (C) 30 / 30 23 AC Power: AC Module: 200-240 VAC Selectable, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Temperature controller: 200-240 VAC, 50/60 Hz, 3-wire single-phase Vacuum pump: 208-230 / 460 VAC, 60 Hz or 200-220 / 380 VAC, 50Hz, 3 Phase RF Generator: 200-240 VAC PC / Monitor: 115 VAC Cabinet exhaust: 100 cfm.
ALLWIN21 AW 903e Rapid Thermal Processor (RTP) ist ein hochentwickeltes Test- und Verpackungsgerät für Halbleiterbauelemente. Es ist in der Lage, extrem hohe Geschwindigkeiten und bietet überlegene Effizienz im Vergleich zu anderen thermischen Verarbeitungssystemen. AW 903e ist ein mehrstufiges thermisches Verarbeitungssystem, das einen Ofen mit einer fortschrittlichen Temperaturkontrolleinheit, ein LED-DTM-Modul und einen Drucksensor zur genauen Unterscheidung von Oberflächenoxiden umfasst. Der RTP-Ofen ist so konzipiert, dass eine gleichmäßige Temperatur innerhalb der Verarbeitungskammer erzeugt wird, um genaue Ergebnisse zu gewährleisten. Es kann so programmiert werden, dass hohe Temperaturen schnell erreicht werden können und die Zykluszeiten um bis zu 90% verkürzen. Die fortschrittliche Temperaturregelmaschine ermöglicht die Einstellung der exakten Temperatur des Ofens über ein Touch-Panel-Feature. Diese fortschrittliche Temperaturregelung sorgt für konsistente Leistung. Das LED-Düsen-Temperaturmanagementmodul sorgt dafür, dass jede Düse innerhalb des Wafers auf die gewünschte Temperatur erwärmt wird. Dadurch wird die Gleichmäßigkeit der erzielten Ergebnisse gewährleistet. Es verbessert auch den Durchsatz, indem die Wartezeit zwischen Wafern reduziert wird. Der Drucksensor dient zur Detektion von Oberflächenoxiden, die die Genauigkeit der Ergebnisse beeinflussen können. Durch den Nachweis dieser Oberflächenoxide kann ALLWIN21 AW 903e deren Bildung eliminieren. Dadurch wird sichergestellt, dass die Genauigkeit der Ergebnisse nicht beeinträchtigt wird. AW 903e wurde auch mit Blick auf Flexibilität entworfen. Es kann zusätzliche Module wie Wafer Heating Tool und Wafer Mapping Asset für zusätzliche Genauigkeit enthalten. Es ist vollautomatisiert und wurde mit Blick auf Sicherheit und Wartung entworfen, was es zu einem sehr effizienten Gerät macht. ALLWIN21 AW 903e ist ein hochentwickeltes RTP und wurde entwickelt, um die höchste Genauigkeit und den Durchsatz bei der Verarbeitung von Wafern zu gewährleisten. Seine gleichmäßige Temperatur und fortschrittliche DTM sorgt für eine gleichmäßige Leistung und seine Fähigkeit, andere Module für zusätzliche Genauigkeit und Effizienz zu integrieren, machen es ideal für viele Anwendungen. Sie ist effizient, wartungs- und betriebssicher und lässt sich problemlos in bestehende Systeme integrieren.
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