Gebraucht ALLWIN21 AW 903e #9201821 zu verkaufen

ALLWIN21 AW 903e ist ein Hochleistungs-Schnellwärmeprozessor (RTP) für die Halbleiterindustrie. Es ist ideal für die Temperatur Rampe-up/Down-Verarbeitung von Wafern und Substraten, sowie für Laser- oder Ionenimplantate. AW 903e bietet präzise thermische Kontrolle bei Temperaturen bis 900 ° C und schnelle Rampenraten (100 ° C/sec bis 800 ° C/sec). ALLWIN21 AW 903e verwendet eine doppelwandige Kühleinrichtung mit einer großen thermischen Masse, die eine präzise Temperaturregelung des Substrats ermöglicht. Es verfügt über eine hochgenaue Rate Zone (HARZ) Temperaturregelung, die präzise thermische Effekte auf dem Substrat basierend auf der Zeit im HARZ ermöglicht. AW 903e ist auch mit einem vollautomatischen Prozesskammerreinigungssystem ausgestattet, das Ausfallzeiten bei der Reinigung der Kammer zwischen Chargen minimieren soll. Die Kammer kann entweder mit H2O2, trockenem Stickstoff oder einer anderen geeigneten Reinigungsflüssigkeit gereinigt werden; die Reinigung kann auch manuell durchgeführt werden. ALLWIN21 AW 903e ist in einem Edelstahlschrank untergebracht, mit einer einfach zu bedienenden Schnittstelle und einer computergesteuerten Konsole zur vollständigen Prozesssteuerung. Die Konsole ermöglicht das Festlegen von Parameterwerten, das Anpassen von thermischen Profilen und das Definieren der Prozessfolge. Darüber hinaus ermöglicht AW 903e eine Fernbedienung und bietet eine bequeme, sichere und zuverlässige Methode zur Steuerung des Geräts. Zur Sicherheit verfügt ALLWIN21 AW 903e über mehrere erweiterte Sicherheitsmerkmale wie eine Inertgasspülung, einen Notabschalter, ein Druckventil zur schnellen Druckentlastung und einen Temperaturüberschalter. Weitere Merkmale sind eine Kammer mit mehreren optischen Fenstern, um eine visuelle Überprüfung des Prozesses zu ermöglichen, und ein automatischer Rücksetzschalter, um den Kammerdruck und die Temperatur wieder auf normale Betriebsniveaus zurückzusetzen. AW 903e ist ein idealer Schnellwärmeprozessor (RTP) für die Halbleiterverarbeitung. Es bietet eine präzise thermische Steuerung, schnelle Rampenraten und eine vollautomatische Kammerreinigungsmaschine, die es zu einer idealen Wahl für die Wafer- und Substratverarbeitung macht. Die erweiterten Sicherheitsfunktionen sorgen für Sicherheit bei der Verwendung des Prozessors, und die Konsole ermöglicht einfach anpassbare thermische Profile und Prozessabläufe.