Gebraucht ALLWIN21 AW B3000 #9201806 zu verkaufen
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ID: 9201806
Wafergröße: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8"
Production-proven plasma stripper
Consistent wafer-to-wafer uniformity
Main body with wires
Control box
Keyboard, mouse
Transformer, circuit breaker, contactor
Cables
EMO, interlocks and watchdog function
Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23”
Main control: PCB and DC
Main body of tools:
RF Match network integrated
Chamber door with quartz plate
Gas and vacuum lines connections
Options:
End-of-process (EOP)
Throttle valve for pressure control
Air-cooled RF generator
Thermocouple: Chamber temperature
Vacuum pump
Lamp tower alarm with buzzer
Main vacuum valve
MKS Baratron
Throttle valve
Touch screen GUI, 15"
High throughput: Up to 75 WPH
Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs
Asher rate: 0-0.1u/min
Positive PR: >0.2u/min
Negative PR
Uniformity: Up to 25%
Particulate: <0.05 /cm2
Selectivity: >1000:1
MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours
Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz
TC Option:
N2 Plasma: Up to 170°C
Types:
Barrel / Batch
Desktop
Stand alone
Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000 ist ein schneller thermischer Prozessor, der auf höchste Präzisionsqualität und Genauigkeit ausgelegt ist. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um einen schnellen thermischen Transfer von Prozess zu Produkt zu ermöglichen und bietet eine überlegene Kontrolle der Temperatur, Zeit und Atmosphäre für die Prozesskontrolle. Die Ausrüstung verfügt über eine fortschrittliche hochtemperaturschnelle thermische Prozessorsteuerung, die eine genaue thermische Kontrolle während der Verarbeitung bietet. AW B3000 unterstützt Prozesstemperaturen bis 2.700 ° C und eine geräuscharme Umgebung zur Präzisionskontrolle. Es verfügt auch über ein hohes Schutzdesign mit einer Hochtemperaturlöschkammer für schnelle Transfers. Der Prozessor verfügt über eine Offenrohrkammerkonstruktion, die eine höhere Flexibilität und Kontrolle der Atmosphäre während der Verarbeitung ermöglicht. ALLWIN21 AW B3000 ist mit einer direkten Heizung ausgestattet, die eine gleichmäßige Erwärmung in der gesamten Verarbeitungskammer ermöglicht. Es sorgt auch für eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf verschiedenen Niveaus der Kammer. Die exakte Steuerung und Wiederholbarkeit der Temperaturen wird durch eine ausgeklügelte Temperaturüberwachung und -steuerung erleichtert. Es ermöglicht eine Temperaturkontrollgenauigkeit von +/- 1 ° C und eine Zeitkontrollgenauigkeit von 0,001 Sekunden. Um eine gleichmäßige Temperatur und schnelle Reaktionszeiten zu gewährleisten, wird die Temperaturregelmaschine mit einem Belichtungsschalungswerkzeug verbessert. Dieses Asset ermöglicht es dem Benutzer auch, die Belichtungszeit und die Anzahl der Belichtungen jedes Verarbeitungsschritts genau zu steuern. Das Modell umfasst auch anpassbare Waferheber zum schnellen Be- und Entladen von Wafern und Substraten. Es gibt auch eine fortschrittliche automatisierte Wafer-Identifikationsausrüstung, die eine präzise Wafer-Beladung und Identifikation ermöglicht. Darüber hinaus ist das System mit automatisierter Datenerfassung und Reporting für Echtzeitanalysen und Feedback ausgestattet. AW B3000 ist ein leistungsfähiger und präziser Schnellwärmeprozessor nach Industriestandard. Es bietet überlegene Präzision, Genauigkeit und Geschwindigkeit der Verarbeitung, mit erweiterten Temperaturkontroll- und Berichtsfunktionen und anpassbaren Hebe- und Aufhängungssystemen für einfaches Be- und Entladen von Wafern und Substraten.
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