Gebraucht ALLWIN21 AW B3000 #9201806 zu verkaufen

ALLWIN21 AW B3000
ID: 9201806
Wafergröße: 8"
Plasma asher / Descum equipment, 8" Production-proven plasma stripper Consistent wafer-to-wafer uniformity Main body with wires Control box Keyboard, mouse Transformer, circuit breaker, contactor Cables EMO, interlocks and watchdog function Quartz chamber: Diameter 12” x depth 23” Main control: PCB and DC Main body of tools: RF Match network integrated Chamber door with quartz plate Gas and vacuum lines connections Options: End-of-process (EOP) Throttle valve for pressure control Air-cooled RF generator Thermocouple: Chamber temperature Vacuum pump Lamp tower alarm with buzzer Main vacuum valve MKS Baratron Throttle valve Touch screen GUI, 15" High throughput: Up to 75 WPH Gas Lines: Up to 5 isolated gas lines with MFCs Asher rate: 0-0.1u/min Positive PR: >0.2u/min Negative PR Uniformity: Up to 25% Particulate: <0.05 /cm2 Selectivity: >1000:1 MTBF / MTTA / MTTR: 450 Hours / 100 Hours / 3.5 Hours Plasma power: Air-cooled RF 13.56MHz TC Option: N2 Plasma: Up to 170°C Types: Barrel / Batch Desktop Stand alone Wafer loading: Manual.
ALLWIN21 AW B3000 ist ein schneller thermischer Prozessor, der auf höchste Präzisionsqualität und Genauigkeit ausgelegt ist. Es verwendet fortschrittliche Technologie, um einen schnellen thermischen Transfer von Prozess zu Produkt zu ermöglichen und bietet eine überlegene Kontrolle der Temperatur, Zeit und Atmosphäre für die Prozesskontrolle. Die Ausrüstung verfügt über eine fortschrittliche hochtemperaturschnelle thermische Prozessorsteuerung, die eine genaue thermische Kontrolle während der Verarbeitung bietet. AW B3000 unterstützt Prozesstemperaturen bis 2.700 ° C und eine geräuscharme Umgebung zur Präzisionskontrolle. Es verfügt auch über ein hohes Schutzdesign mit einer Hochtemperaturlöschkammer für schnelle Transfers. Der Prozessor verfügt über eine Offenrohrkammerkonstruktion, die eine höhere Flexibilität und Kontrolle der Atmosphäre während der Verarbeitung ermöglicht. ALLWIN21 AW B3000 ist mit einer direkten Heizung ausgestattet, die eine gleichmäßige Erwärmung in der gesamten Verarbeitungskammer ermöglicht. Es sorgt auch für eine gleichmäßige Temperaturverteilung auf verschiedenen Niveaus der Kammer. Die exakte Steuerung und Wiederholbarkeit der Temperaturen wird durch eine ausgeklügelte Temperaturüberwachung und -steuerung erleichtert. Es ermöglicht eine Temperaturkontrollgenauigkeit von +/- 1 ° C und eine Zeitkontrollgenauigkeit von 0,001 Sekunden. Um eine gleichmäßige Temperatur und schnelle Reaktionszeiten zu gewährleisten, wird die Temperaturregelmaschine mit einem Belichtungsschalungswerkzeug verbessert. Dieses Asset ermöglicht es dem Benutzer auch, die Belichtungszeit und die Anzahl der Belichtungen jedes Verarbeitungsschritts genau zu steuern. Das Modell umfasst auch anpassbare Waferheber zum schnellen Be- und Entladen von Wafern und Substraten. Es gibt auch eine fortschrittliche automatisierte Wafer-Identifikationsausrüstung, die eine präzise Wafer-Beladung und Identifikation ermöglicht. Darüber hinaus ist das System mit automatisierter Datenerfassung und Reporting für Echtzeitanalysen und Feedback ausgestattet. AW B3000 ist ein leistungsfähiger und präziser Schnellwärmeprozessor nach Industriestandard. Es bietet überlegene Präzision, Genauigkeit und Geschwindigkeit der Verarbeitung, mit erweiterten Temperaturkontroll- und Berichtsfunktionen und anpassbaren Hebe- und Aufhängungssystemen für einfaches Be- und Entladen von Wafern und Substraten.
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