Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587171 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance ist ein schneller thermischer Prozessor, der in einer Vakuumumgebung arbeitet, um Wafer für die Herstellung von Halbleiterbauelementen effizient zu verarbeiten. Das Gerät setzt auf fortschrittliche Technologie, die es ermöglicht, Temperaturwerte während der schnellen thermischen Prozesse genau zu steuern. Darüber hinaus kann das System Materialien in veränderte Formen umwandeln, darunter amorphe, polykristalline und einkristalline Strukturen sowie mehrschichtige Strukturen. Dies kann auch zur Verbesserung der Schichtgleichförmigkeit und der mikrostrukturellen Eigenschaften verwendet werden. Zu den Hauptkomponenten der Radiance-Einheit gehören eine Ladekammer, eine Blitzlampe und ein Hochvakuumrahmen. Die Ladekammer ist der Hauptbereich der Maschine, in dem die Wafer be- und entladen werden. Die Blitzlampe wird verwendet, um das Kammerinnere aufzuheizen, während der Hochvakuumrahmen die Vakuumumgebung aufrechterhält. Darüber hinaus umfasst das Tool erweiterte Prozesskontrollmodule, mit denen Temperatur, Druck und andere Parameter während der schnellen thermischen Bearbeitung überwacht werden. Die Anlage hat eine maximale Verarbeitungstemperatur von 1000 ° C und kann bis zu 12 Wafer in einem Zyklus verarbeiten. Dies ermöglicht eine höhere Produktivität und eine schnellere Zykluszeit. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine branchenübliche Wafer-Handling-Ausrüstung mit automatischer Kassetten-zu-Kassetten-Transferstation und automatischer Ausrichtungserkennung. Dies erleichtert die Einrichtung, den Betrieb und die Wartung des Systems und führt zu einer verbesserten Zuverlässigkeit und Leistung. Die Radiance-Einheit verwendet fortschrittliche Steuerungstechnologien, um Genauigkeit und wiederholbare Ergebnisse während jedes schnellen thermischen Prozesses zu gewährleisten. Es enthält eine integrierte Rückkopplungsschleife zwischen der Wafertemperatur und der Blitzlampenintensität, so dass die Maschine eine konstante und konsistente Temperatur über die gesamte Oberfläche des Wafers aufrecht erhalten kann. Dies gewährleistet gleichbleibende thermische Verarbeitungsergebnisse. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug über eine eingebaute Drucküberwachung, die eine allgemeine Präzisionskontrolle ermöglicht. Das Radiance-Modell hat nicht nur die Fähigkeit, Materialien schnell in veränderte Formen umzuwandeln, sondern kann auch verwendet werden, um Materialien schnell zu glühen. Mit diesem Verfahren können die kristallinen Defekte reduziert, der Kontaktwiderstand erhöht und die Dotierungsaktivierung innerhalb der gewünschten Materialtiefe verbessert werden. Somit ist die Radiance-Ausrüstung aufgrund ihrer Flexibilität, Genauigkeit und Zuverlässigkeit eine ausgezeichnete Wahl für Halbleiterbauelementehersteller.