Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587174 zu verkaufen
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ID: 293587174
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12"
Process: RadOx
(2) Chambers
Wafer type: SNNF
Platform type: Vantage 3.X
Position A and B: (V352) RadOx2
Chamber A and B process: Toxic RP
OHT WIP Delivery
Dual 2-slot active cool down station
No remote control system
E99 Docked reading capability
Load port: SELOP 7
Load port operator interface: Standard (8) lights
Configurable colored lights
Top air intake system
Upper E84 interface enabled OHT
Upper E84 PIO sensors and cables
E99 Carrier ID: TIRIS With RF
Operator access switch
4-Color configurable light towers
Interface A option
eDiagnostic
Out the back connection type: RP
Out the back connection H2
(2) Water cooling chambers
RP Integration hardware: Chamber A and B
Standard RAGB rear light tower
Vantage skin: (2) Toxic chambers
IPUP Transfer pump
Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, 17"
Monitor 2: Flat panel on stand, 17"
Monitor 1 and 2 cables: 25 ft with 16 feet effective
SEMI F47
Semi S2 compliance
RTP Chamber type: Radiance RadOx2, 12"
Technology option: Open loop tuner
MFC Type: STEC
Core anneal and RTO
Rotation type: WRLD Toxic
Low flow O2: 5 SLM
High flow O2: 50 SLM
Oxygen analyzer
H2:
High flow
Low flow
Side inject
No process N2 for flammable MNFLD
Gas pallet type: TOXIC RP Common gas pallet
No MWBC improvement kit
Chamber integration lines: RadOx2
RP Pump cable: 81 Feet
Base ring: RadOx2 base ring
Line 1 / N2 (N/O), 50 SLM
Line 2 / O2, 50 SLM
Line 3 / O2, 5 SLM
Line 6 / H2, 15 SLM, Side inject high flow
Line 7 / H2, 22 SLM, High flow
Line 8 / H2, 2 SLM, Low flow
Line 10 / N2 (P/P), 30 SLM Restrictor
Line 11 / He, 30 SLM
Line 12 / N2 (BP), 50 SLM
Line 13 / N2 (Maglev), 100 SLM
Docking station FST install kit
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance ist ein schneller thermischer Prozessor, der entwickelt wurde, um zuverlässige und wiederholbare Wafertemperaturprofile zu erstellen, um hochpräzise Halbleiterherstellungsprozesse zu ermöglichen. Es ist eine kompakte, präzise Wärmebearbeitungseinheit mit einer zweizonigen Prozesskammer, die bis zu 120˚C erreichen kann. Der Radiance bietet einen dynamischen Temperaturbereich von bis zu 600˚C mit einer Genauigkeit von +/- 5˚C. Dies ermöglicht sehr genaue und wiederholbare thermische Glühprozesse. Der Radiance ist mit einer ultra sauberen Prozesskammer und einem elektrostatischen Spanntisch ausgestattet, um eine saubere und statische Umgebung zu erhalten. Der Radiance verfügt auch über integrierte Werkzeuge zur Messung der Wärmeleitfähigkeit und Gleichmäßigkeit. Dies gewährleistet genaue und wiederholbare Ergebnisse, was zu besseren Wafererträgen und -qualität führt. Zum Radiance gehört auch ein hochmoderner High Speed Power Controller (HSPC). Der HSPC besteht aus einem mehrstufigen Pulsweitenmodulationssystem (PWM) und einem intelligenten Controller, der ein komplexes Leistungsmanagement ermöglicht. Der HSPC ist in der Lage, bis zu 30 STPV (Step Time Process Variable) zu verwalten, um optimale thermische Glühbedingungen zu erreichen. Der Radiance wurde entwickelt, um einen flexiblen und schnellen thermischen Prozess zu ermöglichen. Es verfügt über schnelle Heiz- und Kühlraten, genaue und wiederholbare thermische Profile und kurze Zykluszeiten, die die Herstellung von Feinlinienlithographie und komplexen Ätzprofilen ermöglichen. Zusätzlich kann es mit einem hochauflösenden Pyrometer ausgestattet werden, um die Prozessbedingungen in Echtzeit zu überwachen und eine optimale Leistung zu gewährleisten. Der Radiance wird als gebrauchsfertiges System verkauft, vollständig getestet und konfigurierbar. Das System wurde entwickelt, um den Prozess zu automatisieren, unter Beibehaltung einer hohen Genauigkeit und Wiederholbarkeit. Der Radiance ist als konfigurierbares eigenständiges Gerät oder als Teil einer umfassenden Werkzeugpalette erhältlich. Mit seiner Kombination aus Automatisierung, Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Flexibilität ist der Radiance eine leistungsstarke Wahl für die Halbleiterherstellung.
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