Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293587176 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance ist ein Rapid Thermal Processor, der speziell für fortgeschrittene Anwendungen zur Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Es handelt sich um einen Single Wafer, Batch-Rapid Thermal Processor (RTP), der über ein patentiertes, stationäres Quarzmontage-in-Heater-Design mit einem hocheffizienten, direkt geförderten Flachbildschirm-Design für maximalen Durchsatz verfügt. Die Stationswand besteht aus Quarz und anderen nicht brennbaren Materialien, um sicherzustellen, dass die Kammer während der schnellen thermischen Verarbeitung kühl gehalten wird. AMAT Vantage Radiance Rapid Thermal Processor verwendet mehrere Ebenen der thermischen Kontrolle, um sicherzustellen, dass die Charge von Wafern gleichmäßig verarbeitet wird. Die Temperatur wird von einem fortschrittlichen thermischen Controller-Programm gesteuert, das einen Host zur Förderung von Feedback und einen mehrstufigen Controller verwendet, der auf einem hochgenauen Thermoelement-Array und einer Hochfrequenz-PID-Steuerung basiert. Dieses Gerät ermöglicht es, das Gerät über einen weiten Bereich von Temperaturen und Drücken zu betreiben, so dass der Benutzer die Verarbeitungsparameter bei Bedarf feinjustieren kann. Die Heizrate der Vorrichtung kann auch durch eine einstellbare Hochlaufgeschwindigkeit geregelt werden, so dass der Benutzer die Aufheizzeit einstellen kann. ANGEWANDTE MATERIALIEN Vantage Radiance Rapid Thermal Processor ist mit einem Multi-Zone, volle Wafer Abdeckung Gleichmäßigkeit (MZ-FWCU) System entwickelt, das homogene Erwärmung über die gesamte Waferoberfläche bietet. Die erwärmte Zone der Vorrichtung ist in drei pseudo-isotherme Bearbeitungsbereiche (einschließlich einer Vor- und Nachkühlzone) unterteilt, die den Wafer von Raumtemperatur auf die höchste Solltemperatur in einem akzeptablen Bereich erwärmen können. Die MZ-FWCU sorgt dafür, dass die Wafer gleichmäßig ohne heiße oder kalte Stellen erhitzt werden. Die Kammer von Vantage Radiance ist so konzipiert, dass sie während der Bearbeitungszeiten extrem sauber bleibt. Das Gerät verfügt über einen patentierten Plasmagenerator, der eine stabile und konsistente Reinigungsumgebung bietet, wodurch jegliche Zwischen-Partikel-Abfälle effektiv beseitigt und minimale Oberflächen- und Materialschäden ermöglicht werden. Darüber hinaus ist das Gerät mit Korrosions- und Partikelreduzierungsmerkmalen, einem Face-Lift-Grip-Mechanismus und einstellbaren Heizerhöhen ausgestattet, um eine schnelle und einfache Wartung zu ermöglichen. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance Rapid Thermal Processor eine fortschrittliche und hocheffiziente Einzelwafer-Bearbeitungsmaschine, die entwickelt wurde, um Geräteerträge zu optimieren und Durchlaufzeit zu minimieren. Seine Fähigkeiten und Funktionen, einschließlich der fortschrittlichen thermischen Controller-Programm, Einheitlichkeit Werkzeug, und Plasma-Generator machen es eine ideale Wahl für fortgeschrittene Halbleiterbauelement Fertigungsanwendungen.