Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance #293591364 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage Radiance
ID: 293591364
Wafergröße: 12"
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Process: ISSG (2) Chambers.
AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance ist ein schneller thermischer Prozessor (RTP), der entwickelt wurde, um die neuesten Fortschritte beim schnellen thermischen Glühen zu nutzen, ein Prozess, der die Geräteleistung für Halbleiterbauelemente schnell und effizient verbessert. AMAT Vantage Radiance bietet Hochtemperatur-Verarbeitungsfunktionen, die andere derzeit verfügbare RTPs übersteigen. Es kombiniert hocheffizientes Heizen mit streng kontrollierter thermischer Gleichmäßigkeit und erreicht eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit auch bei höchsten Temperaturen. Der modulare Aufbau von APPLIED MATERIALS Vantage Radiance ermöglicht maximale Flexibilität bei der Implementierung, wodurch der Anwender den Prozess-Sollwert anpassen und zwischen einzelnen Wafer- oder Cluster-Konfigurationen wählen kann. Die intuitive Benutzeroberfläche des Geräts umfasst ein leicht zugängliches Programmiersystem mit einer Reihe programmierbarer Parameter, die eine Reihe von Bedingungen unterstützen, einschließlich einzelner Wafer- und Multi-Wafer-Prozesse. Vantage Radiance verfügt über eine einzigartige thermische Steuereinheit, die eine präzise Steuerung der Temperatur auf Wafer-Ebene bietet und die Optimierung von Geräten wie Transistoren und LEDs ermöglicht. Der Temperaturregler der Maschine ist darauf ausgelegt, den Wafer schnell und präzise auf den Sollwert zu bringen, den Energieverbrauch zu minimieren und die Wendezeit zu minimieren. Aufgrund der geringen Prozesszeiten eignet sich AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage Radiance auch für eine Reihe von Metallisierungsprozessen, einschließlich der Abscheidung von PECVD- und ALD-Folien. Das Tool kann auch für spezifische Metallisierungsprozesse individuell konfiguriert werden, um die Produktivität zu maximieren. AMAT Vantage Radiance bietet neben seinen schnell-thermischen Verarbeitungsmöglichkeiten durch seine eingebauten Reinigungsfunktionen auch eine überlegene Verschmutzungsbeständigkeit. Die Anlage verwendet Hochdruckreinigung, Plasmareinigung und Ozonsterilisation, um organische Verunreinigungen im Modell vor dem Prozessstart zu entfernen. ANGEWANDTE MATERIALIEN Ausstrahlung bietet auch eine Reihe von Sicherheitsmerkmalen, einschließlich Kühl- und Reinigungssysteme sowie eine Reaktion-Abschrecken-Fähigkeit, um sicherzustellen, dass Prozesse sicher abgeschlossen werden. Darüber hinaus entspricht die Ausrüstung den Standards wie SEMI F47 und ISO 14644 und bietet eine zusätzliche Sicherheitsschicht für den Betrieb. Insgesamt ist Vantage Radiance ein leistungsfähiger, effizienter und zuverlässiger schneller thermischer Prozessor, der eine hervorragende thermische Kontrolle und hervorragende Prozessergebnisse bietet. Seine erweiterten Funktionen und umfassenden Sicherheitsprotokolle machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für eine breite Palette von Halbleiterverarbeitungsanforderungen.
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