Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Vantage #9225981 zu verkaufen

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ID: 9225981
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Rapid Thermal Processing (RTP) system, 12" Wafer type: SNNF A & B Chamber type: RTP Radiance RP vantage A & B RTP Radiance RP vantage chamber: Process application: Core anneal RTO & ISSG O2 Analyzer Lamp driver, P/N: 0190-17056 MFC 1: N2 50 slm HORIBA Stec sec-z12dmn MFC 2: O2 50 slm HORIBA Stec sec-z12dmn MFC 3: O2 5 slm HORIBA Stec sec-z11dm MFC 7: H2 20 slm HORIBA Stec sec-z12dm MFC 8: H2 3 slm HORIBA Stec sec-z514mgx MFC 11: He 30 slm HORIBA Stec sec-z12dm MFC 12: He 50 slm HORIBA Stec sec-z12dm MFC 13: N2 100 slm HORIBA Stec sec-z12dmn WRLD Maglev assembly, P/N: 0190-14175 Interface options: OHT WIP Delivery Loadports, enhanced 25-wafer foup OHT Light curtain Chamber A interface: Radiance interface panel, P/N: 0465-07030 Chamber B interface: Radiance interface panel, P/N: 0465-07031 Remote options system monitor: Monitor 1: Flat panel with keyboard on stand, P/N: 0395-00099 Monitor 1 cable, 25 Foot Monitor 2: Through the wall flat panel with keyboard, P/N: 0460-50048 Monitor 2 cable, 25 Foot Umbilicals: Chamber AC Box to heat exchanger, 75 Feet H/A, AMAT / APPLIED MATERIALS KVM to user interface with EVC, 25 FT P/N: 0140-06462 / 0150-13813 / 0150-14109 Robot, YASKAWA BTV Darp manipulator, QS Vantage FI, P/N: 0220-39516 Reflective wafer on blade, P/N: 0220-39702 Cables, P/N: 0150-14109 / 0150-13813 / 0140-06462. (2) Facility bracket / Cover (2) Front monitors, keyboards & bezels Exhaust line and KF flex hoses Gasline adapter: 90° Elbows Options & electrical requirements: Line voltage: 200/208 V System safety equipment Mainframe Process chamber options No heat exchanger No rough pumps 2006 vintage.
AMAT / Aussichtspunkt von APPLIED MATERIALS ist eine schnelle Hochleistungsthermalverarbeitungsanlage, die für den Dünnfilm schnelle in einer Prozession gehende Thermalanwendungen entwickelt ist. Es bietet schnelle, hochwertige Glüh-, Abscheidungs-, Vorabscheidungs- und Wärmebehandlungen für eine Vielzahl von Halbleitermaterialien. Das System wurde entwickelt, um eine gleichmäßige Temperaturverteilung über ein Substrat mit einem großen Gleichförmigkeitsbereich und einer Präzisionstemperaturregelung zu gewährleisten. Es verfügt über drei Prozesskammern, die jeweils in der Lage sind, Temperaturen bis zu 1200 ° C genau zu kontrollieren - die höchste Temperatur eines schnellen Wärmeprozessors auf dem Markt. Die patentierte vertikale Reaktionskammer von AMAT Vantage ermöglicht die präzise Platzierung von heißen Substraten und den integrierten, verknüpften Lasertemperatursensor, der die Temperatur mit einem einzigen Knopfdruck schnell und genau misst. Darüber hinaus ermöglichen die zweistufigen vertikalen Förder- und horizontalen Abhebemechanismen der Kammer höchste Durchsatz- und Substratschrittgrößen in der Industrie. ANGEWANDTE MATERIALIEN Vantage verfügt auch über die neueste Prozesssteuerungs- und Überwachungstechnik. Die automatisierte Prozessausführungseinheit sorgt für konsistente und wiederholbare Ergebnisse, indem sie alle Schritte des schnellen thermischen Prozesses automatisiert. Es bietet mehrere Rezepte, die einfach zu konfigurieren und zu optimieren sind, um sicherzustellen, dass die Prozessleistung den genauen Anforderungen des Benutzers entspricht. Die Maschine kann auch remote über eine Ethernet-Verbindung überwacht werden. Schließlich ist Vantage benutzerfreundlich und einfach zu integrieren. Dank seines All-in-One-Designs ist es schnell und einfach zu installieren und bedienbar, ohne dass komplexe Flow-Control-Hardware erstellt werden muss. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS Vantage über eine vollständig vernetzte Plattform zur nahtlosen Datenverwaltung im gesamten Unternehmen. Insgesamt ist AMAT Vantage ein ideales Werkzeug für hochpräzise, schnelle thermische Verarbeitungsanwendungen. Der unschlagbare Prozesstemperaturbereich, die fortschrittliche Prozesskontrolle und -überwachung sowie die einfache Integration machen es zur perfekten Wahl für Unternehmen, die schnelle, genaue und wiederholbare Prozessergebnisse suchen.
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