Gebraucht APSYSTEM KORONA-1200P #293610309 zu verkaufen

APSYSTEM KORONA-1200P ist ein hochmoderner Rapid Thermal Processor (RTP) zur Verarbeitung von Halbleiterwafern in einer industriellen Umgebung. KORONA-1200P verwendet präzise keramische Heizelemente für Temperaturen bis zu 1200 ° C und bietet optimale Leistung und thermische Genauigkeit. APSYSTEM KORONA-1200P ist mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und digitalen Prozesssteuerungen ausgestattet, die es dem Benutzer ermöglichen, das Temperaturprofil während jedes thermischen Zyklus genau zu überwachen und anzupassen. KORONA-1200P verfügt über eine doppelwandige isolierte Kammer aus Edelstahl und Aluminiumlegierung. Diese Kammer ist für einen gleichmäßigen Temperatur- und Druckausgleich im Inneren ausgelegt, wodurch Hochtemperaturprozesse mit minimalen Temperaturgradienten erreicht werden können. Die Kammer verwendet auch eine Zwangsluftkühlung, um eine schnelle Temperaturrückgewinnung zwischen Zyklen zu gewährleisten und den Durchsatz zu maximieren. APSYSTEM KORONA-1200P enthält außerdem ein kompaktes Prozessgasfördersystem zur optimalen Gaseinspritzung in die Reaktionskammer. Die Einheit besteht aus einem manuell einstellbaren Prozessgasdurchsatz, einem eingebauten Massendurchsatzmesser und einem Filterstrang zum Schutz vor Partikelverschmutzung. Die Maschine bietet genaue und wiederholbare Prozessbedingungen, so dass der Benutzer die chemischen Reaktionen in der Kammer genau kontrollieren kann. Die Benutzeroberfläche von KORONA-1200P bietet eine intuitive Bedienung und Parameteranpassung. Der Benutzer hat die volle Kontrolle über die Kammertemperatur und den Druck, die Prozessgasdurchflussrate und die Prozeßzeit. Der Benutzer kann auch das Temperaturprofil für jeden Prozess mit der Kammerkonfigurationssoftware anpassen, so dass der Benutzer die Wiederholbarkeit und Ausbeute maximieren kann. Zusammenfassend ist APSYSTEM KORONA-1200P ein RTP in industrieller Qualität, das beispiellose Leistung und vollständige Prozesskontrolle bietet. Die Kammerkonfigurationssoftware, präzise keramische Heizelemente und digital gesteuerte Prozessparameter geben dem Anwender die Möglichkeit, Wafer mit konsistenten, wiederholbaren Hochleistungsergebnissen zu verarbeiten.