Gebraucht APSYSTEM KORONA-1200P #9270852 zu verkaufen

APSYSTEM KORONA-1200P ist ein schneller thermischer Prozessor, der eine hochpräzise thermische Verarbeitung für eine Vielzahl verschiedener Materialien und Substrate ermöglicht. KORONA-1200P wird hauptsächlich in der Halbleiterindustrie eingesetzt und ist eine kostengünstige Lösung für die Verarbeitung vieler kleiner Substrate. APSYSTEM KORONA-1200P ist in der Lage, überlegene Oberflächengleichmäßigkeit über Substrate zu erzeugen, mit Hot Spots von weniger als 2% Abweichung während der typischen Verarbeitung. Es verwendet eine gas-katalytische Effusionsquelle, um Substrate bis zu 1.200 Grad Celsius schnell zu erhitzen und in Sekundenschnelle wieder abzukühlen. Es ist so konzipiert, dass es dank der Verwendung eines patentierten Wärmesteuerungssystems in einem schnell erwärmten Temperaturprofil mit hoher Genauigkeit arbeitet. KORONA-1200P verfügt über eine Reihe von Funktionen, die auf Flexibilität und präzise Steuerung ausgelegt sind. Es verfügt über einen variablen Leistungseintrag zur Einstellung der Wärmegeschwindigkeit sowie einen programmierbaren Gasfluss, um exakte Materialmengen für eine präzise Gleichmäßigkeit an Substrate zu liefern. Dies ermöglicht eine Prozesskonsistenz über einen weiten Temperaturbereich. Zusätzlich ist der Prozessor mit absoluter Druck- und Temperaturüberwachung ausgestattet, um sicherzustellen, dass jeder Prozess gleich ausfällt. APSYSTEM KORONA-1200P ist auch mit Sicherheitsfunktionen ausgestattet, um den Benutzer und die Ausrüstung zu schützen. Es verfügt über ein thermisches Grenzsystem, das Überhitzung verhindert und den Prozessor automatisch abschaltet, wenn er gefährliche Temperaturen erkennt. Der Prozessor weist außerdem eine optische Verriegelung auf, die den Einsatz einer im Betrieb zu tragenden Sicherheitsbrille erfordert. KORONA-1200P bietet eine zuverlässige Lösung für eine schnelle thermische Verarbeitung und ist ideal für ein breites Anwendungsspektrum. Es ist in der Lage, hochgleichmäßige Oberflächen mit ausgezeichneter Wiederholbarkeit herzustellen und gleichzeitig die Flexibilität für verschiedene Substrate und Verfahren einzustellen. Damit ist sie eine ideale Lösung für die Halbleiterverarbeitung.